[实用新型]一种提高氧化钒沉积均匀度的载片台

摘要

本实用新型公开了一种提高氧化钒沉积均匀度的载片台，应用在物理气相沉积领域，其技术方案要点是：包括真空筒和设置在真空筒内的载片组件，载片组件包括载片盘，载片盘的上表面设置有多个用于氧化钒沉积的衬底，载片盘的下方叠设有加热盘，加热盘上对应多个衬底的位置设置有多个加热腔体，多个加热腔体内设置有用于对衬底加热的电热辐射板，具有的技术效果是：通过在衬底的下方加入电热辐射板，同时配合加热腔体以及聚热腔体，可以实现对衬底进行更具针对性的加热，同时其受热更加均匀，进而实现氧化钒粒子均匀快速地在衬底上沉积。