[实用新型]一种提高氧化钒沉积均匀度的载片台有效

专利信息
申请号: 202122806544.5 申请日: 2021-11-16
公开(公告)号: CN216378351U 公开(公告)日: 2022-04-26
发明(设计)人: 宋永辉;王世宽;徐伟 申请(专利权)人: 无锡尚积半导体科技有限公司
主分类号: C23C14/08 分类号: C23C14/08;C23C14/22;C23C14/50
代理公司: 江苏智天知识产权代理有限公司 32550 代理人: 陈文艳
地址: 214000 江苏省无*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 提高 氧化 沉积 均匀 载片台
【说明书】:

实用新型公开了一种提高氧化钒沉积均匀度的载片台,应用在物理气相沉积领域,其技术方案要点是:包括真空筒和设置在真空筒内的载片组件,载片组件包括载片盘,载片盘的上表面设置有多个用于氧化钒沉积的衬底,载片盘的下方叠设有加热盘,加热盘上对应多个衬底的位置设置有多个加热腔体,多个加热腔体内设置有用于对衬底加热的电热辐射板,具有的技术效果是:通过在衬底的下方加入电热辐射板,同时配合加热腔体以及聚热腔体,可以实现对衬底进行更具针对性的加热,同时其受热更加均匀,进而实现氧化钒粒子均匀快速地在衬底上沉积。

技术领域

本实用新型涉及物理气相沉积领域,特别涉及一种提高氧化钒沉积均匀度的载片台。

背景技术

氧化钒沉积载片台是一种通过在其上安装设置有衬底,并在氧化钒均匀沉积在衬底上形成产品的设备,在氧化钒沉积的过程中可以通过对载片台进行加热来夹块氧化钒沉积的速度;

传统的载片台通常采用对安装有衬底的载片盘进行整体加热来加快氧化钒的沉积,但是这种方法会导致载片盘上没有设置衬底的位置的温度升高,虽然加快了氧化钒的沉积速度,但是无法保证氧化钒在衬底表面生长的均匀度,若衬底上的氧化钒存在生长不均匀的情况则需要其他的工序进行再加工,工作效率较低。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种提高氧化钒沉积均匀度的载片台,其优点是可以对每个衬底进行定向加热,可以使氧化钒沉积更快且更均匀。

本实用新型的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的:

一种提高氧化钒沉积均匀度的载片台,包括真空筒和设置在真空筒内的载片组件,所述载片组件包括载片盘,所述载片盘的上表面设置有多个用于氧化钒沉积的衬底,所述载片盘的下方叠设有加热盘,所述加热盘上对应多个所述衬底的位置设置有多个加热腔体,多个所述加热腔体内设置有用于对衬底加热的电热辐射板。

通过上述技术方案:电热辐射板可以快速对自身升温,且温度可控,由于其为电辐射发热,其发热的指向性更好,由于加热腔体对应每个衬底的安装位置,在电热辐射板加热后,加热腔体可以更有针对性的对其目标区域进行加热,在衬底温度升高后,其周侧的温度相对较低,温度较高的衬底可以更好地对氧化钒粒子进行吸引,在单位时间内可以完成更多氧化钒粒子的沉积,由于加热区域较为集中,衬底的受热更加均匀,从而实现更好的氧化钒粒子沉积的均匀性。

本实用新型进一步设置为:所述载片盘的底面对应多个所述加热腔体的位置设置有有利于衬底受热的聚热腔体。

通过上述技术方案:聚热腔体可以更好地对热量进行集中,便于衬底均匀和快速受热。

本实用新型进一步设置为:所述载片盘和加热盘的中心位置向下穿出设置有中空的传动杆,所述传动杆上滑动密封套置有密封轴承,所述密封轴承密封内嵌在真空筒的底部。

通过上述技术方案:传动杆用于驱动载片盘和加热盘转动,传动杆与加热盘为密封连接,为保证传动杆穿出真空筒时不会破坏真空环境,采用密封轴承可以在保持密封的同时,传动杆的转动不会受到影响。

本实用新型进一步设置为:所述传动杆通过密封轴承穿出所述真空筒的一端密封固定连接有中空的驱动轴,所述驱动轴远离所述真空筒的一端设置有驱动其转动的驱动机构。

通过上述技术方案:驱动机构用于驱动驱动轴转动,进而带动传动杆和载片盘以及加热盘转动。

本实用新型进一步设置为:所述驱动机构包括驱动架,所述驱动架的中部设置有轴承,所述驱动轴通过轴承穿出驱动架,所述驱动架上设置有驱动电机,所述驱动电机转动轴的端部设置有驱动齿轮,所述驱动轴位于驱动齿轮的对应位置设置有传动齿轮,所述传动齿轮与所述驱动齿轮啮合传动连接。

通过上述技术方案:驱动电机通过驱动齿轮和传动齿轮带动驱动轴转动,驱动架上的轴承可以保证驱动轴在转动时的竖直度,避免驱动轴在转动时发生角度偏移。

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