[实用新型]一种提高氧化钒沉积均匀度的载片台

权利要求书

1.一种提高氧化钒沉积均匀度的载片台，包括真空筒(1)和设置在真空筒(1)内的载片组件(2)；

其特征在于，所述载片组件(2)包括载片盘(3)，所述载片盘(3)的上表面设置有多个用于氧化钒沉积的衬底(4)；

所述载片盘(3)的下方叠设有加热盘(5)，所述加热盘(5)上对应多个所述衬底(4)的位置设置有多个加热腔体(6)，多个所述加热腔体(6)内设置有用于对衬底(4)加热的电热辐射板(7)。

2.根据权利要求1所述的一种提高氧化钒沉积均匀度的载片台，其特征在于，所述载片盘(3)的底面对应多个所述加热腔体(6)的位置设置有有利于衬底(4)受热的聚热腔体(8)。

3.根据权利要求1所述的一种提高氧化钒沉积均匀度的载片台，其特征在于，所述载片盘(3)和加热盘(5)的中心位置向下穿出设置有中空的传动杆(9)，所述传动杆(9)上滑动密封套置有密封轴承(10)，所述密封轴承(10)密封内嵌在所述真空筒(1)的底部。

4.根据权利要求3所述的一种提高氧化钒沉积均匀度的载片台，其特征在于，所述传动杆(9)通过密封轴承(10)穿出所述真空筒(1)的一端密封固定连接有中空的驱动轴(11)，所述驱动轴(11)远离所述真空筒(1)的一端设置有驱动其转动的驱动机构(12)。

5.根据权利要求4所述的一种提高氧化钒沉积均匀度的载片台，其特征在于，所述驱动机构(12)包括驱动架(13)，所述驱动架(13)的中部设置有轴承(14)，所述驱动轴(11)通过轴承(14)穿出驱动架(13)，所述驱动架(13)上设置有驱动电机(15)，所述驱动电机(15)转动轴的端部设置有驱动齿轮(16)，所述驱动轴(11)位于驱动齿轮(16)的对应位置设置有传动齿轮(17)，所述传动齿轮(17)与所述驱动齿轮(16)啮合传动连接。

6.根据权利要求5所述的一种提高氧化钒沉积均匀度的载片台，其特征在于，所述驱动轴(11)穿出所述驱动架(13)的端部设置有导电滑环(18)，所述导电滑环(18)的输电线内穿所述驱动轴(11)和传动杆(9)，所述导电滑环(18)的输电线穿出传动杆(9)并与多个所述电热辐射板(7)电连接。

7.根据权利要求6所述的一种提高氧化钒沉积均匀度的载片台，其特征在于，所述传动杆(9)和驱动轴(11)内分别设置有密封橡胶块(19)，所述导电滑环(18)的输电线与所述密封橡胶块(19)密封连接。

8.根据权利要求5所述的一种提高氧化钒沉积均匀度的载片台，其特征在于，所述驱动轴(11)位于所述驱动机构(12)和所述真空筒(1)之间滑动套置有直线轴承(20)，所述直线轴承(20)上设置有支撑板(21)，所述驱动轴(11)滑动穿出所述支撑板(21)，所述真空筒(1)的底面与支撑板(21)固定连接。

9.根据权利要求8所述的一种提高氧化钒沉积均匀度的载片台，其特征在于，所述支撑板(21)位于所述驱动架(13)的一侧固定设置有伺服滑台(22)，所述驱动架(13)的一端通过滑块与所述伺服滑台(22)滑动连接。

10.根据权利要求9所述的一种提高氧化钒沉积均匀度的载片台，其特征在于，所述支撑板(21)位于其远离伺服滑台(22)的一端设置有滑轨(23)，所述滑轨(23)与所述驱动架(13)远离伺服滑台(22)的一端滑动连接。