[实用新型]一种能够提高晶圆刻蚀均匀性的刻蚀机台有效

专利信息
申请号: 202121113086.0 申请日: 2021-05-24
公开(公告)号: CN214956778U 公开(公告)日: 2021-11-30
发明(设计)人: 陈壮云;刘金军;刘站站;张磊;穆亚琦;穆小东 申请(专利权)人: 常州阿普智能科技有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67;H01L21/027
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 213001 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 一种能够提高晶圆刻蚀均匀性的刻蚀机台,本实用新型涉及刻蚀机技术领域,槽体的内侧壁上开设有一号导向槽,一号导向槽的内部活动嵌设有转动环;转动环的外侧壁上开设有环形槽,转动环的内侧壁上等圆角固定设置有数个二号气嘴,数个二号气嘴分别与相对应位置上的导气孔相连通设置;槽体的外侧壁底部通过电机支架固定设置有气泵;一号电机的输出轴穿过槽体后,与一号齿轮的中部固定连接,一号齿轮的下侧与一号齿环相啮合设置;齿轮箱顶面上活动嵌设有调节块,调节块的顶面固定设置有支撑台;能够有效的防止反应气体在晶圆边缘聚集的现象发生,使得晶圆的边缘区域刻蚀更加均匀,提高了产品的生产质量,实用性更强。
搜索关键词: 一种 能够 提高 刻蚀 均匀 机台
【主权项】:
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