[发明专利]大尺寸钼溅射靶材及采用化学气相沉积法的制备工艺在审
| 申请号： | 202111621882.X | 申请日： | 2021-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN114318256A | 公开（公告）日： | 2022-04-12 |
| 发明（设计）人： | 徐从康;马赛;贺涛;陈箫箫 | 申请（专利权）人： | 亚芯半导体材料（江苏）有限公司;亚芯电子科技（常州）有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C16/14 |
| 代理公司： | 常州市权航专利代理有限公司 32280 | 代理人： | 周洁 |
| 地址： | 213000 江苏省常州*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明属于钼溅射靶材技术领域，具体涉及一种大尺寸钼溅射靶材及采用化学气相沉积法的制备工艺。所述大尺寸钼溅射靶材的制备方法，包括以下步骤：将钼与三氟化氮在高温条件下反应，制备出粗品六氟化钼；对所述粗品六氟化钼经真空蒸馏法和吸附法提纯后，得到高纯度六氟化钼；采用化学气相沉积法，用还原气体将高纯度六氟化钼还原成金属钼；将金属钼沉积到基体材料上，一步法生产出大尺寸钼溅射靶材。本发明制作的超高纯钼溅射靶材以高纯三氟化氮、高纯钼粉和还原气体(氢气)为原料，在化学气相沉积设备中一步完成，反应过程为连续气相反应，产品各向一致性和批次间一致性远优于传统钼靶材。 | ||
| 搜索关键词： | 尺寸 溅射 采用 化学 沉积 制备 工艺 | ||
【主权项】：
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