[实用新型]一种提高薄膜沉积质量的电弧离子镀设备有效
| 申请号： | 202023094148.6 | 申请日： | 2020-12-21 |
| 公开（公告）号： | CN214782102U | 公开（公告）日： | 2021-11-19 |
| 发明（设计）人： | 刘若岚 | 申请（专利权）人： | 云南玖玖通电力设备有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/32 | 分类号： | C23C14/32 |
| 代理公司： | 昆明润勤同创知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 53205 | 代理人： | 付石健 |
| 地址： | 650000 云南省昆明市中国(云南)自由贸易试验*** | 国省代码： | 云南;53 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种提高薄膜沉积质量的电弧离子镀设备，包括设备主体，所述设备主体的内部设置有电机，所述电机的上端外表面设置有转台，所述转台的上端外表面设置有液压柱和底座。通过在转台的上端外表面设置有液压柱，连接板通过液压柱与转台活动连接，连接板一号固定板之间设置有滑轨，连接板和固定板通过滑轨活动连接，液压柱伸出抬起固定板及立柱等，再通过滑轨将固定板和立柱等拉出设备主体之外，扩大的使用者的活动空间，从而便于放料和取料，通过在立柱的侧端外表面设置挂钩，不仅有利于钩挂工件，还有利于安装料盘，料盘通过通孔与挂钩活动连接，通过挂钩调整料盘之间的摆放间距，使料盘便于承载各种形状各异和大小不同的工件。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 提高 薄膜 沉积 质量 电弧 离子镀 设备 | ||
【主权项】：
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