[实用新型]一种提高薄膜沉积质量的电弧离子镀设备有效

专利信息
申请号: 202023094148.6 申请日: 2020-12-21
公开(公告)号: CN214782102U 公开(公告)日: 2021-11-19
发明(设计)人: 刘若岚 申请(专利权)人: 云南玖玖通电力设备有限公司
主分类号: C23C14/32 分类号: C23C14/32
代理公司: 昆明润勤同创知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 53205 代理人: 付石健
地址: 650000 云南省昆明市中国(云南)自由贸易试验*** 国省代码: 云南;53
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摘要:
搜索关键词: 一种 提高 薄膜 沉积 质量 电弧 离子镀 设备
【权利要求书】:

1.一种提高薄膜沉积质量的电弧离子镀设备,包括设备主体(1),其特征在于:所述设备主体(1)的内部设置有电机(2),所述电机(2)的上端外表面设置有转台(3),所述转台(3)的上端外表面设置有液压柱(4)和底座(5),所述液压柱(4)的上端外表面设置有连接板(6),所述连接板(6)的上端外表面设置有固定板(7),所述固定板(7)的一侧外表面设置有立柱(8),所述立柱(8)的侧端外表面设置有挂钩(9),所述挂钩(9)的侧端外表面设置有料盘(10),所述连接板(6)与固定板(7)之间设置有滑轨(12)。

2.根据权利要求1所述的一种提高薄膜沉积质量的电弧离子镀设备,其特征在于:所述连接板(6)的下端外表面设置有连接件(13),所述连接件(13)与连接板(6)之间为固定连接,且与底座(5)之间为活动连接,所述连接件(13)的横切面的形状呈六边形,所述电机(2)与设备主体(1)之间为固定连接。

3.根据权利要求1所述的一种提高薄膜沉积质量的电弧离子镀设备,其特征在于:所述转台(3)与电机(2)之间为活动连接,所述液压柱(4)和底座(5)分别与转台(3)之间为固定连接,所述液压柱(4)的数量为两组,且呈对称排布,所述连接板(6)与液压柱(4)之间为固定连接。

4.根据权利要求1所述的一种提高薄膜沉积质量的电弧离子镀设备,其特征在于:所述固定板(7)通过滑轨(12)与连接板(6)活动连接,所述滑轨(12)的数量为两组,且呈对称排布,所述立柱(8)与固定板(7)之间为固定连接,所述固定板(7)的数量为两组,且呈对称排布。

5.根据权利要求1所述的一种提高薄膜沉积质量的电弧离子镀设备,其特征在于:所述挂钩(9)与立柱(8)之间为固定连接,所述立柱(8)的数量为若干组,且呈阵列排布,所述挂钩(9)的数量为若干组,且呈阵列排布,所述料盘(10)与挂钩(9)的连接处设置有通孔(11)。

6.根据权利要求5所述的一种提高薄膜沉积质量的电弧离子镀设备,其特征在于:所述料盘(10)通过通孔(11)与挂钩(9)活动连接,所述通孔(11)的数量为若干组,且呈阵列排布,所述料盘(10)的数量为若干组,且呈阵列排布。

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