[实用新型]一种提高薄膜沉积质量的电弧离子镀设备

说明书

本实用新型公开了一种提高薄膜沉积质量的电弧离子镀设备，包括设备主体，所述设备主体的内部设置有电机，所述电机的上端外表面设置有转台，所述转台的上端外表面设置有液压柱和底座。通过在转台的上端外表面设置有液压柱，连接板通过液压柱与转台活动连接，连接板一号固定板之间设置有滑轨，连接板和固定板通过滑轨活动连接，液压柱伸出抬起固定板及立柱等，再通过滑轨将固定板和立柱等拉出设备主体之外，扩大的使用者的活动空间，从而便于放料和取料，通过在立柱的侧端外表面设置挂钩，不仅有利于钩挂工件，还有利于安装料盘，料盘通过通孔与挂钩活动连接，通过挂钩调整料盘之间的摆放间距，使料盘便于承载各种形状各异和大小不同的工件。

技术领域

本实用新型涉及电弧离子镀设备领域，特别涉及一种提高薄膜沉积质量的电弧离子镀设备。

背景技术

电弧离子镀技术属于冷场致弧光放电，电弧离子镀技术工艺过程如下。烘烤加热工件及氨离子复击净化；工件经清洗人炉后抽真空；当真空度达到 6X10-3Pa后，开启烘烤加热电源，对工件进行加热；达到一定温度后，通人氨气，真空度降至2～3Pa,接通工件偏压电源，电压调至800～1000V；此时产生辉光放电，获得氩离子；氩离子在负偏压电场的作用下，对工件进行轰击净化。现有的电弧离子镀设备在使用过程中，由于料架位于设备主体内部，所以不便放料取料，并且料架的使用范围有限，不适应各种型号和各种形状的工件，为此，我们提出一种提高薄膜沉积质量的电弧离子镀设备。

实用新型内容

本实用新型的主要目的在于提供一种提高薄膜沉积质量的电弧离子镀设备，可以有效解决背景技术中的问题。

为实现上述目的，本实用新型采取的技术方案为：

一种提高薄膜沉积质量的电弧离子镀设备，包括设备主体，所述设备主体的内部设置有电机，所述电机的上端外表面设置有转台，所述转台的上端外表面设置有液压柱和底座，所述液压柱的上端外表面设置有连接板，所述连接板的上端外表面设置有固定板，所述固定板的一侧外表面设置有立柱，所述立柱的侧端外表面设置有挂钩，所述挂钩的侧端外表面设置有料盘，所述连接板与固定板之间设置有滑轨。

优选的，所述连接板的下端外表面设置有连接件，所述连接件与连接板之间为固定连接，且与底座之间为活动连接，所述连接件的横切面的形状呈六边形，所述电机与设备主体之间为固定连接。

通过采用上述技术方案，可达到如下技术效果：连接件有利于卡在底座内，从而便于转台带动连接板和固定板旋转。

优选的，所述转台与电机之间为活动连接，所述液压柱和底座分别与转台之间为固定连接，所述液压柱的数量为两组，且呈对称排布，所述连接板与液压柱之间为固定连接。

通过采用上述技术方案，可达到如下技术效果：液压柱伸出有利于抬起立柱和料盘等，滑轨有利于拉出固定板和立柱等，液压柱和滑轨配合使用，便于放料和取料。

优选的，所述固定板通过滑轨与连接板活动连接，所述滑轨的数量为两组，且呈对称排布，所述立柱与固定板之间为固定连接，所述固定板的数量为两组，且呈对称排布。

通过采用上述技术方案，可达到如下技术效果：固定板便于安装立柱，立柱有利于安装挂钩。

优选的，所述挂钩与立柱之间为固定连接，所述立柱的数量为若干组，且呈阵列排布，所述挂钩的数量为若干组，且呈阵列排布，所述料盘与挂钩的连接处设置有通孔。

通过采用上述技术方案，可达到如下技术效果：挂钩不仅能够挂住工件，还有利于挂住料盘，从而有利于将形状各异的工件摆放在料盘上。

优选的，所述料盘通过通孔与挂钩活动连接，所述通孔的数量为若干组，且呈阵列排布，所述料盘的数量为若干组，且呈阵列排布。

通过采用上述技术方案，可达到如下技术效果：料盘通过通孔与挂钩活动连接，有利于调整料盘之间的间距，从而便于适应工件的不同大小。