[实用新型]一种激光成像曝光机提高台面吸板真空度装置有效
| 申请号： | 202022743278.1 | 申请日： | 2020-11-24 |
| 公开（公告）号： | CN213843754U | 公开（公告）日： | 2021-07-30 |
| 发明（设计）人： | 刘斌 | 申请（专利权）人： | 天津普林电路股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京沁优知识产权代理有限公司 11684 | 代理人： | 李蓓蕾 |
| 地址： | 300000 天津市滨海新*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种激光成像曝光机提高台面吸板真空度装置，包括粘接固定连接在曝光机台面顶端的密封装置，所述密封装置用于密封住台面上的真空孔，所述密封装置包括若干阻气垫片，各阻气垫片之间为粘接连接，所述粘接连接使用胶带粘接实现，所述阻气垫片均为透明基片。本实用新型提高了激光成像曝光机真空度，防止出现曝光解析不良或对位偏位等问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 激光 成像 曝光 提高 台面 真空 装置 | ||
【主权项】：
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