[发明专利]一种提高复杂流道磨粒流抛光均匀性的装置及方法有效
| 申请号: | 202011413194.X | 申请日: | 2020-12-03 | 
| 公开(公告)号: | CN112476226B | 公开(公告)日: | 2022-11-18 | 
| 发明(设计)人: | 杨一明;陈靖;孙国辉;申泱;钟晓红;范会玉;马宁;张昆;苗春林;马丽翠;邓涛;刘天亮;孙勇跃;杨春雷;魏杰 | 申请(专利权)人: | 首都航天机械有限公司 | 
| 主分类号: | B24B31/116 | 分类号: | B24B31/116;B24B31/12;B24B41/00;B24B41/06 | 
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| 地址: | 100076 *** | 国省代码: | 北京;11 | 
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| 摘要: | 本发明公开了一种提高复杂流道磨粒流抛光均匀性的装置及方法,包括上盖、下盖、支撑柱、导流芯、导流芯垫块、下防护环、下防护环垫块、上防护环及上防护环垫块,用螺栓将导流芯、导流芯垫块、支撑柱固定在下盖上,下防护环和上防护环用螺栓与下盖进行连接,工件安装于连接好的上盖、下盖的定位凹槽内,用螺栓将上盖、下盖与支撑柱进行连接,导流芯垫块、上防护环垫块与下防护环垫块的数量均可根据加工需要进行选择。该装置可对多级涡轮盘叶片等复杂流道产品逐级定向抛光,提高了多级涡轮盘叶片等复杂流道产品磨粒流抛光均匀性。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 提高 复杂 流道磨粒流 抛光 均匀 装置 方法 | ||
【主权项】:
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