[发明专利]防尘薄膜框架及防尘薄膜组件在审
申请号: | 201911192851.X | 申请日: | 2019-11-28 |
公开(公告)号: | CN111308855A | 公开(公告)日: | 2020-06-19 |
发明(设计)人: | 关原一敏 | 申请(专利权)人: | 信越化学工业株式会社 |
主分类号: | G03F1/64 | 分类号: | G03F1/64 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及防尘薄膜框架及防尘薄膜组件。本发明提供一种防尘薄膜框架、及使用该防尘薄膜框架而构成的防尘薄膜组件;该防尘薄膜框架,可减少因防尘薄膜的张力所造成的防尘薄膜框架的往内侧的挠曲,抑制防尘薄膜组件的曝光区域的减少,且使皱褶不易进入至防尘薄膜框架的边中央附近的防尘薄膜。本发明为矩形框状的防尘薄膜框架10,其特征在于:至少一边的长度超过500mm;于至少一对相对向的边中的各自的边,构成为边的中央的防尘薄膜框架10的剖面积,较边的端部的防尘薄膜框架的剖面积更大。本发明的防尘薄膜组件的特征在于,其是使用本发明的防尘薄膜框架而构成的。 | ||
搜索关键词: | 防尘 薄膜 框架 组件 | ||
【主权项】:
暂无信息
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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