[实用新型]防尘装置、物镜及LDI光刻机防尘镜有效
| 申请号： | 201621281514.X | 申请日： | 2016-11-25 |
| 公开（公告）号： | CN206292528U | 公开（公告）日： | 2017-06-30 |
| 发明（设计）人： | 刘宝金 | 申请（专利权）人： | 天津津芯微电子科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙)11371 | 代理人： | 马维丽 |
| 地址： | 300457 天津市滨海新区天津经济技术开发区黄海路1*** | 国省代码： | 天津;12 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型提供了一种防尘装置、物镜及LDI光刻机防尘镜，涉及激光直接成像技术领域，包括成像防尘圈和防尘物镜，防尘物镜分为物镜防尘圈和防尘装置，防尘装置的防尘圈与物镜防尘圈连接。防尘装置包括防尘圈、防尘片和密封压圈，防尘片和密封压圈均装配在防尘圈的内部，密封压圈位于防尘圈内部的底层，防尘片位于密封压圈的上层。该技术方案解决了传统光刻机镜头存在的清洁过程繁琐，清洁后恢复防尘片困难的问题，从而简化了光刻机的清洁流程，节省了技术人员清洁后恢复防尘片的时间，从而提高了光刻机的生产效率。 | ||
| 搜索关键词： | 防尘 装置 物镜 ldi 光刻 | ||
【主权项】：
一种防尘装置，其特征在于，包括：防尘圈、防尘片和密封压圈；所述防尘片和所述密封压圈装配在所述防尘圈的内部；所述密封压圈位于所述防尘圈内部的底层；所述防尘片位于所述密封压圈的上层；所述密封压圈固定所述防尘片。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于天津津芯微电子科技有限公司，未经天津津芯微电子科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201621281514.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
