[发明专利]防尘薄膜框架及防尘薄膜组件

说明书

本发明涉及防尘薄膜框架及防尘薄膜组件。本发明提供一种防尘薄膜框架、及使用该防尘薄膜框架而构成的防尘薄膜组件；该防尘薄膜框架，可减少因防尘薄膜的张力所造成的防尘薄膜框架的往内侧的挠曲，抑制防尘薄膜组件的曝光区域的减少，且使皱褶不易进入至防尘薄膜框架的边中央附近的防尘薄膜。本发明为矩形框状的防尘薄膜框架10，其特征在于：至少一边的长度超过500mm；于至少一对相对向的边中的各自的边，构成为边的中央的防尘薄膜框架10的剖面积，较边的端部的防尘薄膜框架的剖面积更大。本发明的防尘薄膜组件的特征在于，其是使用本发明的防尘薄膜框架而构成的。

技术领域

本发明关于一种光刻用防尘薄膜组件，特别关于一种作为制造LSI(Large-ScaleIntegration，大型集成电路)、超LSI等半导体装置或液晶显示板时的防尘罩使用的防尘薄膜组件的防尘薄膜框架、及使用该防尘薄膜框架构成的防尘薄膜组件，实质上关于一种利用500nm以下的光线的曝光方式中的光刻用防尘薄膜组件的防尘薄膜框架、及使用该防尘薄膜框架构成的防尘薄膜组件。

背景技术

在LSI、超LSI等半导体或液晶显示器等的制造中，对半导体晶圆或液晶用玻璃板照射紫外线而制作图案。此时若微尘附着于使用的光掩膜，则由于所述微尘遮蔽、或反射紫外线，而发生转印的图案的变形、短路等，有品质受损等问题。

因此，这些作业通常在无尘室进行。但是，即便如此，仍难以恒常地将光掩膜保持干净。因而，于光掩膜表面装设防尘薄膜组件作为防尘罩后，施行曝光。此一情况，异物附着于防尘薄膜组件上，而未直接附着于光掩膜的表面，故若在光刻时先聚焦于光掩膜的图案上，则防尘薄膜组件上的异物便与转印不相关。

一般而言，防尘薄膜组件，是将透光良好的由硝化纤维素、醋酸纤维素或氟树脂等构成的透明防尘薄膜，粘接至由铝合金、不锈钢、工程塑料等构成的防尘薄膜框架的上端面借以制作。进一步，于防尘薄膜框架的下端，设置用于装设在光掩膜的由聚丁烯树脂、聚醋酸乙烯树脂、丙烯树脂、硅酮树脂等构成的粘着层，及因应必要而设置以保护粘着层为目的的脱模层(隔离膜)。

如同上述，一般而言，防尘薄膜由薄层树脂制作，为了将防尘薄膜以无松弛的方式由防尘薄膜框架支持，必须在施加适当大小的张力的状态下粘接至防尘薄膜框架。因此，在一般使用的正方形模或长方形模的防尘薄膜组件中，贴附防尘薄膜后的防尘薄膜框架，因膜的拉力而产生若干往内侧的挠曲。此一现象，例如明显出现在印刷基板或液晶曝光用途所使用的大型防尘薄膜组件等，防尘薄膜框架的边长大的情况。

另一方面，光掩膜，从以单一片尽可能制作出大面积图案等观点来看，需要尽可能确保曝光区域。因此，若不尽量使防尘薄膜框架的往内侧的挠曲减小，则存着可利用的曝光区域减少等问题。

当然，若将防尘薄膜框架的剖面积充分增大以增高刚性，则可解决这些问题。但是，实际上，防尘薄膜框架的内侧具有如同上述的曝光区域的问题，关于外侧，亦必须确保光掩膜的固定或搬运中的操控用的间隙。因此，一般而言，防尘薄膜框架的各边，以由这些限制决定的直线形状形成。

对于这些问题，前人提出下述方法：例如，预先使防尘薄膜框架的长边全体往外侧突出，借由膜的张力使突出部分凹入，获得大致直线状的形状(专利文献1)。此外，本申请发明人等提出：从防尘薄膜框架的端面方向观察，至少一对的边的外侧形成为直线状，内侧形成为朝向外侧凸出的圆弧状、拋物线状或多角状的防尘薄膜框架(专利文献2)；此外，于至少一对的边中，中央部为外侧凸出的圆弧形状且其两侧为外侧凹入的圆弧形状，进一步，使其为外侧配置有直线形状的形状的防尘薄膜框架(专利文献3)等。在这些技术，可将膜的张力所造成的防尘薄膜框架的往内侧的挠曲减小，抑制曝光区域的减少或使几乎为未减少的状态。

【现有技术文献】

【专利文献】

专利文献1：日本专利第4004188号公报

专利文献2：日本专利第4343775号公报