[发明专利]光刻图形的尺寸检测方法有效
| 申请号： | 201510481969.X | 申请日： | 2015-08-03 |
| 公开（公告）号： | CN105044941B | 公开（公告）日： | 2018-01-12 |
| 发明（设计）人： | 傅冠儒;陈彩琴;王中来 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司;武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/13 | 分类号： | G02F1/13;G03F7/20 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙)44300 | 代理人： | 黄威 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种光刻图形的尺寸检测方法，用于液晶显示面板的阵列基板的光刻设计图形的尺寸检测，其包括获取检测图形的功能层参数以及位置参数；根据检测图形的功能层参数以及位置参数，获取检测图形的厚度轮廓；根据检测图形的厚度轮廓获取检测图形的平面轮廓；以及对检测图形的平面轮廓进行尺寸检测。本发明的光刻图形的尺寸检测方法的检测准确性较高，从而提高了相应的液晶显示面板的显示品质。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 图形 尺寸 检测 方法 | ||
【主权项】：
一种光刻图形的尺寸检测方法，用于液晶显示面板的阵列基板的光刻设计图形的尺寸检测，其特征在于，包括：获取检测图形的功能层参数以及位置参数；根据所述检测图形的所述功能层参数以及所述位置参数，获取所述检测图形的厚度轮廓；根据所述检测图形的厚度轮廓获取所述检测图形的平面轮廓；以及对所述检测图形的平面轮廓进行尺寸检测。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市华星光电技术有限公司;武汉华星光电技术有限公司，未经深圳市华星光电技术有限公司;武汉华星光电技术有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201510481969.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种电模拟渗流测试系统及方法
- 下一篇：一种夯筑用L型模板
