[发明专利]光刻图形的尺寸检测方法

说明书

技术领域

本发明涉及检测领域，特别是涉及一种光刻图形的尺寸检测方法。

背景技术

随着液晶显示面板的阵列基板上的曝光图形的尺寸越来越小，液晶显示面板的制作商以及用户对光刻图像的尺寸的要求也越来越高。

现有的阵列基板的制作工序中，会对光刻图形的设计尺寸进行检测，以保证光刻工艺的稳定性。但是由于实际阵列基板中的每一功能层的图形分别与该功能层的层厚以及周边图形相关，如功能层在某个区域内的厚度发生变化，可能导致该区域的图形的尺寸也产生相应的变化。或某个区域中的图形线条较多时，可能尺寸检测区域的边界难以确定，从而造成尺寸检测的准确性下降。如采用该光刻设计图形进行阵列基板的制作，可能会导致该阵列基板与设计差异较大，甚至导致该阵列基板报废。

故，有必要提供一种光刻图形的尺寸检测方法，以解决现有技术所存在的问题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种检测准确度较高的光刻图形的尺寸检测方法，以解决现有的光刻图形的尺寸检测方法的检测准确性较低，从而导致相应的液晶显示面板的显示品质较低的技术问题。

为解决上述问题，本发明提供的技术方案如下：

本发明实施例提供一种光刻图形的尺寸检测方法，用于液晶显示面板的阵列基板的光刻设计图形的尺寸检测，其包括：

获取检测图形的功能层参数以及位置参数；

根据所述检测图形的所述功能层参数以及所述位置参数，获取所述检测图形的厚度轮廓；

根据所述检测图形的厚度轮廓获取所述检测图形的平面轮廓；以及

对所述检测图形的平面轮廓进行尺寸检测。

在本发明所述的光刻图形的尺寸检测方法中，所述尺寸检测方法还包括步骤：

根据所述检测图形的所述功能层参数以及所述位置参数，获取所述检测图形的周边图形；以及

获取所述检测图形的周边图形与所述检测图形的间距，并根据所述间距对所述周边图形进行图形修正。

在本发明所述的光刻图形的尺寸检测方法中，所述根据所述间距对所述周边图形进行图形修正的步骤包括：

如所述间距大于设定值，则不对所述周边图形进行图形修正

在本发明所述的光刻图形的尺寸检测方法中，所述根据所述间距对所述周边图形进行图形修正的步骤包括：

如所述间距小于等于所述设定值，则对所述周边图形进行等比例缩小，以增大所述间距，并使所述间距大于所述设定值。

在本发明所述的光刻图形的尺寸检测方法中，所述设定值为2.5微米至3.5微米。

在本发明所述的光刻图形的尺寸检测方法中，所述根据所述检测图形的所述功能层参数以及所述位置参数，获取所述检测图形的厚度轮廓的步骤包括：

将多个所述检测图形按设定矩阵进行排列；以及

根据所述检测图形的所述功能层参数以及所述位置参数，获取位于所述设定矩阵的中间位置的所述检测图形的厚度轮廓。

在本发明所述的光刻图形的尺寸检测方法中，相邻的所述检测图形之间的距离为相应的所述液晶显示面板的相邻像素单元之间的距离。

在本发明所述的光刻图形的尺寸检测方法中，所述设定矩阵为3*3矩阵。

在本发明所述的光刻图形的尺寸检测方法中，所述设定矩阵为9*3矩阵。

在本发明所述的光刻图形的尺寸检测方法中，所述对所述检测图形的平面轮廓进行尺寸检测的步骤包括：

将所述检测图形的平面轮廓从所述光刻图形上移出；以及对移出后的所述检测图形的平面轮廓进行尺寸检测。

相较于现有的光刻图形的尺寸检测方法，本发明的光刻图形的尺寸检测方法根据检测图形的厚度轮廓获取检测图形的平面轮廓，提高了检测图形的实际平面轮廓的准确性，从而提高了尺寸检测的准确性；解决了现有的光刻图形的尺寸检测方法的检测准确性较低，从而导致相应的液晶显示面板的显示品质较低的技术问题。

为让本发明的上述内容能更明显易懂，下文特举优选实施例，并配合所附图式，作详细说明如下：

附图说明

图1为本发明的光刻图形的尺寸检测方法的第一优选实施例的流程图；

图2为本发明的光刻图形的尺寸检测方法的第一优选实施例的步骤S102的流程图；

图3为本发明的光刻图形的尺寸检测方法的第一优选实施例的步骤S104的流程图；

图4为本发明的光刻图形的尺寸检测方法的第二优选实施例的流程图；

图5A为本发明的光刻图形的尺寸检测方法的第二优选实施例的步骤S404中对周边图形进行图形修正前的结构示意图；