[发明专利]光刻图形的尺寸检测方法

权利要求书

1.一种光刻图形的尺寸检测方法，用于液晶显示面板的阵列基板的光刻设计图形的尺寸检测，其特征在于，包括：

获取检测图形的功能层参数以及位置参数；

根据所述检测图形的所述功能层参数以及所述位置参数，获取所述检测图形的厚度轮廓；

根据所述检测图形的厚度轮廓获取所述检测图形的平面轮廓；以及

对所述检测图形的平面轮廓进行尺寸检测。

2.根据权利要求1所述的光刻图形的尺寸检测方法，其特征在于，所述尺寸检测方法还包括步骤：

根据所述检测图形的所述功能层参数以及所述位置参数，获取所述检测图形的周边图形；以及

获取所述检测图形的周边图形与所述检测图形的间距，并根据所述间距对所述周边图形进行图形修正。

3.根据权利要求2所述的光刻图形的尺寸检测方法，其特征在于，所述根据所述间距对所述周边图形进行图形修正的步骤包括：

如所述间距大于设定值，则不对所述周边图形进行图形修正。

4.根据权利要求2所述的光刻图形的尺寸检测方法，其特征在于，所述根据所述间距对所述周边图形进行图形修正的步骤包括：

如所述间距小于等于设定值，则对所述周边图形进行等比例缩小，以增大所述间距，并使所述间距大于所述设定值。

5.根据权利要求3或4所述的光刻图形的尺寸检测方法，其特征在于，所述设定值为2.5微米至3.5微米。

6.根据权利要求1所述的光刻图形的尺寸检测方法，其特征在于，所述根据所述检测图形的所述功能层参数以及所述位置参数，获取所述检测图形的厚度轮廓的步骤包括：

将多个所述检测图形按设定矩阵进行排列；以及

根据所述检测图形的所述功能层参数以及所述位置参数，获取位于所述设定矩阵的中间位置的所述检测图形的厚度轮廓。

7.根据权利要求6所述的光刻图形的尺寸检测方法，其特征在于，相邻的所述检测图形之间的距离为相应的所述液晶显示面板的相邻像素单元之间的距离。

8.根据权利要求6所述的光刻图形的尺寸检测方法，其特征在于，所述设定矩阵为3*3矩阵。

9.根据权利要求6所述的光刻图形的尺寸检测方法，其特征在于，所述设定矩阵为9*3矩阵。

10.根据权利要求1所述的光刻图形的尺寸检测方法，其特征在于，所述对所述检测图形的平面轮廓进行尺寸检测的步骤包括：

将所述检测图形的平面轮廓从所述光刻图形上移出；以及

对移出后的所述检测图形的平面轮廓进行尺寸检测。