[发明专利]一种提高感光材料的曝光精度的方法在审
| 申请号： | 201410145411.X | 申请日： | 2014-04-11 |
| 公开（公告）号： | CN103941546A | 公开（公告）日： | 2014-07-23 |
| 发明（设计）人： | 何璇;刘飞;张玉军;刘超 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/11 | 分类号： | G03F7/11;G03F7/16 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明实施例公开了一种提高感光材料的曝光精度的方法，涉及显示技术领域，可以显著提高感光材料的曝光精度，而且不用购买新的解析度高的曝光机和新配方光刻胶，成本较低。该提高感光材料的曝光精度的方法包括在所述感光材料上形成一层折射薄膜，用于形成所述折射薄膜的材料溶于水，且不包含碳碳双键类的活性官能团和紫外光引发剂。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 提高 感光材料 曝光 精度 方法 | ||
【主权项】：
一种提高感光材料的曝光精度的方法，其特征在于，包括：在所述感光材料上形成折射薄膜，用于形成所述折射薄膜的材料溶于水，且不包含碳碳双键类的活性官能团和紫外光引发剂。
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