[发明专利]一种提高感光材料的曝光精度的方法

说明书

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种提高感光材料的曝光精度的方法。

背景技术

液晶显示器是一种平面超薄的显示装置，近年来，液晶显示器发展迅速，其主要发展方向之一为提高屏幕的分辨率。目前，提高屏幕的分辨率的主要方法为形成具有更小线宽的黑矩阵、栅线和数据线等不透光结构，从而在有限区域内形成更多的像素单元。

具体地，以黑矩阵为例，形成黑矩阵的方法为：在衬底基板上形成一层黑色负性光刻胶，使用具有黑矩阵图案的掩膜板遮盖，经过曝光、显影、刻蚀等工艺后形成黑矩阵。理论上，形成的黑矩阵的尺寸应与掩膜板上黑矩阵图案的尺寸一致，但在曝光过程中，如图1所示，降低了曝光精度，进而使得实际曝光的黑色负性光刻胶2’的尺寸大于掩膜板1’上黑矩阵图案的尺寸，使得形成的黑矩阵的线宽较大，不利于提高屏幕的分辨率。

现有技术中，通常通过调制新配方的光刻胶，或者购买新的解析度高的曝光机等方式来提高曝光精度，但调制新配方的光刻胶费时费力且效果不明显，购买新的解析度高的曝光机则需要再投资，成本较高。

发明内容

本发明所要解决的技术问题在于提供一种提高感光材料的曝光精度的方法，该方法可以显著提高感光材料的曝光精度，而且不用购买新的解析度高的曝光机和新配方光刻胶，成本较低。

为解决上述技术问题，本发明提供了一种提高感光材料的曝光精度的方法，该方法采用如下技术方案：

一种提高感光材料的曝光精度的方法，包括：

在所述感光材料上形成折射薄膜，用于形成所述折射薄膜的材料溶于水，且不包含碳碳双键类的活性官能团和紫外光引发剂。

可选地，在感光材料上形成折射薄膜，之前还包括：

对所述感光材料进行前烘。

进一步地，所述在感光材料上形成折射薄膜包括：

在所述感光材料上涂布一层所述用于形成所述折射薄膜的材料的水溶液；

对所述涂布了所述水溶液的所述感光材料进行烘干，在所述感光材料上形成所述折射薄膜。

可选地，所述折射薄膜的折射率为1～10，优选为1～2。

可选地，所述折射薄膜的厚度为1～100μm，优选为3～20μm。

进一步地，所述用于形成所述折射薄膜的材料为聚乙烯醇、乙烯-醋酸乙烯共聚物、聚氧化乙烯、醋酸纤维素之中的任意一种或者任意几种的混合物。

进一步地，所述用于形成所述折射薄膜的材料为聚乙烯醇，形成的所述折射薄膜为聚乙烯醇薄膜。

进一步地，所述聚乙烯醇薄膜的厚度为5μm、10μm或者20μm，优选为20μm。

可选地，所述感光材料为正性光刻胶或者负性光刻胶。

本发明实施例提供了一种提高感光材料的曝光精度的方法，该方法包括：在感光材料上形成折射薄膜，用于形成该折射薄膜的材料溶于水，且不包含碳碳双键类的活性官能团和紫外光引发剂。在对感光材料进行曝光的过程中，曝光机发出的紫外光经过掩膜板后变得发散，该部分紫外光经过折射薄膜时，由于折射薄膜的折射率大于空气的折射率，使该部分紫外光通过折射薄膜后变得聚拢，从而有效减小了感光材料实际曝光区域的尺寸与掩膜板上相应图案的尺寸之间的差异，从而可以显著提高感光材料的曝光精度，而且不用购买新的解析度高的曝光机和新配方光刻胶，成本较低。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为现有技术中的曝光过程示意图；

图2为本发明实施例中的在感光材料上形成一层折射薄膜的流程图；

图3为本发明实施例中的曝光过程示意图；

图4为本发明实施例中的图3所示的曝光过程的D区域的放大示意图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

实施例一

本发明实施例提供了一种提高感光材料的曝光精度的方法，能够显著提高感光材料的曝光精度，而且不用购买新的解析度高的曝光机和新配方光刻胶，成本较低。