[发明专利]具有梯度带隙分布的吸收层制备方法

摘要

本发明涉及一种具有梯度带隙分布的吸收层制备方法，它利用真空方法制备一层吸收层薄膜，然后在上面使用涂布法再制备一层或多层不同带隙的吸收层薄膜，经过热处理后，形成具有梯度带隙的吸收层结构。本发明所提供的真空加涂布方法，解决了单独采用真空法或涂布法制备吸收层的很多固有缺点，可以制备具有梯度带隙结构的吸收层，对设备要求不苛刻，可以更好的控制CIGS吸收层的带隙分布，适合连续化生产。

主权项

一种具有梯度带隙分布的吸收层制备方法，其特征在于包含如下步骤：（1）在包含衬底的基板上采用真空方法制备一层铜铟镓硒、铜铟铝硒、铜铟硒或铜铟镓硒硫吸收层薄膜；    （2）在步骤（1）生成的薄膜上面采用涂布法制备至少一层铜铟镓硒、铜铟铝硒、铜铟镓、铜铟硫或铜铟镓硒硫薄膜层；    （3）在450OC～850OC的温度下，通过硒化热处理形成具有梯度带隙结构的吸收层。