[实用新型]cvd金刚石制备反应腔冷却结构有效
申请号: | 202223191764.2 | 申请日: | 2022-11-30 |
公开(公告)号: | CN219099303U | 公开(公告)日: | 2023-05-30 |
发明(设计)人: | 刘小利 | 申请(专利权)人: | 常州宝颐金刚石科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;C23C16/27;F25D17/02 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | cvd 金刚石 制备 反应 冷却 结构 | ||
本实用新型公开了一种cvd金刚石制备反应腔冷却结构,包括外层圆柱腔、内层反应腔、第一隔水板和第二隔水板,所述内层反应腔置于外层圆柱腔内,所述内层反应腔的外壁上呈环形阵列设置有纵向条状凹槽,所述外层圆柱腔上设置有第一进水口、第二进水口、第一回水口、第二回水口。本结构通过在内层反应腔的外表面设置纵向条状凹槽,能够使内层反应腔的外壁与冷却循环水的散热接触面积增加1.3‑1.5倍,通过隔水板将外层圆柱腔、内层反应腔之间的循环水流动区域进行等分,再增设一组进水口和回水口,降低单个进水口的注水压力,缓解了对内层反应腔的外壁纵向条状凹槽的冲刷力,延长了内层反应腔的使用寿命。
技术领域
本实用新型属于金刚石制备设备技术领域,具体涉及一种cvd金刚石制备反应腔冷却结构。
背景技术
cvd金刚石制备过程中,反应腔体内的温度很高,需要降温制冷,通常采用两层圆柱腔体水冷,内层反应腔外表面一般是光面的,制冷效果取决于内层圆柱的面积,新的方法可以内层反应腔外表面加工成带槽的圆柱体,增加散热面积。
发明内容
本实用新型所要解决的技术问题是:提供一种能够增大内层反应腔外壁散热面积的cvd金刚石制备反应腔冷却结构。
为了解决上述技术问题,本发明是通过以下技术方案实现的:一种cvd金刚石制备反应腔冷却结构,包括外层圆柱腔、内层反应腔、第一隔水板和第二隔水板,所述内层反应腔置于外层圆柱腔内,所述内层反应腔的外壁上呈环形阵列设置有纵向条状凹槽,所述外层圆柱腔上设置有第一进水口、第二进水口、第一回水口、第二回水口,所述第一隔水板和第二隔水板对称且固定安装在外层圆柱腔的内壁上,所述第一隔水板和第二隔水板将外层圆柱腔、内层反应腔之间的区域分隔为第一冷却区域和第二冷却区域,所述第一进水口、第一回水口连通至第一冷却区域,所述第二进水口、第二回水口连通至第二冷却区域。
作为优选,所述纵向条状凹槽的深度设置为3mm-4mm。
作为优选,所述第一隔水板和第二隔水板的内端与内层反应腔的外壁之间存在5mm-8mm的间隙。
与现有技术相比,本实用新型的有益之处是:本结构通过在内层反应腔的外表面设置纵向条状凹槽,能够使内层反应腔的外壁与冷却循环水的散热接触面积增加1.3-1.5倍,通过隔水板将外层圆柱腔、内层反应腔之间的循环水流动区域进行等分,再增设一组进水口和回水口,降低单个进水口的注水压力,缓解了对内层反应腔的外壁纵向条状凹槽的冲刷力,延长了内层反应腔的使用寿命。
附图说明
下面结合附图对本实用新型进一步说明。
图1是本实用新型的内部结构示意图。
具体实施方式
下面结合具体实施方式对本实用新型进行详细描述:
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
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