[实用新型]cvd金刚石制备反应腔冷却结构

权利要求书

1.一种cvd金刚石制备反应腔冷却结构，其特征在于：包括外层圆柱腔（1）、内层反应腔（6）、第一隔水板（81）和第二隔水板（82），所述内层反应腔（6）置于外层圆柱腔（1）内，所述内层反应腔（6）的外壁上呈环形阵列设置有纵向条状凹槽（7），所述外层圆柱腔（1）上设置有第一进水口（2）、第二进水口（3）、第一回水口（4）、第二回水口（5），所述第一隔水板（81）和第二隔水板（82）对称且固定安装在外层圆柱腔（1）的内壁上，所述第一隔水板（81）和第二隔水板（82）将外层圆柱腔（1）、内层反应腔（6）之间的区域分隔为第一冷却区域（11）和第二冷却区域（12），所述第一进水口（2）、第一回水口（4）连通至第一冷却区域（11），所述第二进水口（3）、第二回水口（5）连通至第二冷却区域（12）。

2.根据权利要求1所述的cvd金刚石制备反应腔冷却结构，其特征在于：所述纵向条状凹槽（7）的深度设置为3mm-4mm。

3.根据权利要求1所述的cvd金刚石制备反应腔冷却结构，其特征在于：所述第一隔水板（81）和第二隔水板（82）的内端与内层反应腔（6）的外壁之间存在5mm-8mm的间隙。