[发明专利]一种遮挡板、蒸镀设备及制作高梯度膜层的制备方法

说明书

本发明涉及一种遮挡板、蒸镀设备及制作高梯度膜层的制备方法，其中，遮挡板包括：圆形遮挡板本体，在所述遮挡板本体上包括至少一个开口区域，所述开口区域允许蒸发分子穿过遮挡板本体；所述开口区域的弧度自所述遮挡板本体中心处向外边沿逐渐变大。有益效果是：在蒸镀过程中遮挡部分蒸发材料，改变蒸发材料在基板上的分布方式，获得膜厚变化幅度可调控的梯度膜厚薄膜。

技术领域

本发明涉及OLED有机镀膜技术领域，尤其是涉及一种遮挡板、蒸镀设备及制作高梯度膜层的制备方法。

背景技术

OLED即有机发光二极管OLED(Organic Light-Emitting Diode)，是一种利用多层有机薄膜结构产生电致发光的器件。OLED显示技术具有全固态、自发光、对比度高、功耗低、色域广、视角广、响应速度块、工作温度范围广等一系列优点，被业界公认为是继液晶显示器(LCD)之后的第三代显示技术，能极大地满足消费者对显示技术的新需求。按照OLED有机发光材料的不同，可分为小分子材料器件和高分子材料器件，这两种器件的主要差别在制作工艺上，小分子器件主要采用真空蒸镀工艺，高分子器件采用的是旋转涂覆或者是喷涂印刷工艺，目前原材料和器件制造工艺较为成熟的是通过真空蒸镀工艺制备的小分子OLED材料器件。

OLED材料是有机半导体材料，但由于器件的膜厚很薄，通常小于几百纳米，通过电流需要施加的电压大大降低，超薄膜结构还可以尽量保证发光层发出的光透射到外部，而不是被器件本身吸收。可以看出，OLED成功发光的关键就在于超薄膜的结构。在OLED器件的制备中，膜厚不但影响器件电压、掺杂率等，还通过微腔效应显著影响器件的出光效率和出射光谱，因此膜厚控制是OLED有机蒸镀工艺的一个关键点。

若能找到各个膜层的最佳膜厚，材料的最佳掺杂率，并合理利用微腔效应，将能在同一个材料体系内得到性能最佳的器件结构，这正是器件设计和工艺优化工作的核心。但是，为了验证某一个OLED膜层在不同膜厚下的器件性能，需要制备一系列不同膜厚的器件，加之一个OLED器件涉及多个不同的膜层，为完成全部的工艺验证就需要制备大量的样品器件，这将耗费大量的人力物力和时间。

因此，本发明提出了一种遮挡板、蒸镀设备及制作高梯度膜层的制备方法。

发明内容

本发明提供一种遮挡板、蒸镀设备及制作高梯度膜层的制备方法，可经过一次蒸镀工艺，在同一个基板上得到膜厚梯度变化的薄膜，从而同时得到不同膜厚的多个器件，大幅提升工作效率。

本发明所解决的技术问题采用以下技术方案来实现：

一种遮挡板，包括：一圆形遮挡板本体，在所述遮挡板本体上包括至少一个开口区域，所述开口区域允许蒸发分子穿过遮挡板本体；

所述开口区域的弧度自所述遮挡板本体中心处向外边沿逐渐变大。

在一些实施例中，所述开口区域包括第一边界和第二边界，所述第一边界呈直线结构，自所述遮挡板本体的中心处至外边沿向外延伸，所述第二边界呈弧线结构，圆弧半径为2～5cm之间，自所述遮挡板本体的中心处至外边沿向外延伸。

在一些实施例中，远离所述遮挡板本体中心处的所述开口区域的弧度b大于靠近所述遮挡板本体中心处的所述开口区域的弧度a，弧度b与弧度a之比为3:2到3:1之间。

在一些实施例中，当所述开口区域为多个时，所述开口区域均匀分布在所述遮挡板本体上。

在一些实施例中，在所述遮挡板本体的外侧设有边缘，将所述开口区域的包覆于所述边缘之内。

在一些实施例中，所述遮挡板本体的材质包括金属。

本发明还提出一种蒸镀设备，包括：

基板，始终处于静止状态；

蒸发源，位于基板的下方；