[发明专利]一种自旋式热屏快速清理装置和使用方法在审

专利信息
申请号: 202110307867.1 申请日: 2021-03-23
公开(公告)号: CN113070298A 公开(公告)日: 2021-07-06
发明(设计)人: 郑伟扬;王思锋;周宇;李莎;焦岳卫 申请(专利权)人: 宁夏协鑫晶体科技发展有限公司
主分类号: B08B9/032 分类号: B08B9/032;B08B13/00;C30B15/00;C30B29/06
代理公司: 江苏圣典律师事务所 32237 代理人: 肖明芳
地址: 755099 宁*** 国省代码: 宁夏;64
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摘要:
搜索关键词: 一种 自旋 式热屏 快速 清理 装置 使用方法
【说明书】:

发明公开了一种自旋式热屏快速清理装置和使用方法,所述装置包括挂钩组件、第一腔体、第二腔体和第三腔体,挂钩组件贯穿第一腔体的一端面,与第一腔体转动连接;第一腔体的另一端面与第二腔体的一端面固定连接;第二腔体的另一端面与第三腔体的一端面固定连接;第二腔体包括氩气腔体、排气腔体和固定在氩气腔体和排气腔体间的隔板;氩气腔体的侧面固定连接有进气阀,排气腔体与第三腔体连通;隔板上固定连接有热敏开关控制阀,热敏开关控制阀固定连接有回旋式排气道;第三腔体内固定连接有涡轮式导气盘,第三腔体侧面开设有两个以上的排气孔。使用该装置能够将热屏内壁的硅粉清理干净,避免拉晶时硅粉掉落对于炉台成晶的影响。

技术领域

本发明属于单晶硅制造领域,具体涉及一种自旋式热屏快速清理装置和使用方法。

背景技术

随着一炉多根工艺在单晶行业内的广泛推广,在单晶炉内二次加料次数不断增加。由于二次加料时会产生大量的硅粉附着在单晶炉热屏的内壁,拉晶时硅粉受气流的影响极易掉落,当硅粉粘附于晶体结晶界面时就会导致断棱。现有的方法一是在原料破碎时减少粉末料的产生,二是加料时将原料再次过筛尽可能的去除粉末料。但由于加料时原料自带粉末料同时料块互相挤压磕碰还会产生一部分粉末料,现有方法无法有效避免加料时硅粉附着在热屏内壁。

发明内容

发明目的:本发明所要解决的技术问题是针对现有技术的不足,提供一种自旋式热屏快速清理装置和使用方法。

为了解决上述技术问题,本发明第一方面公开了一种自旋式热屏快速清理装置,包括挂钩组件、第一腔体、第二腔体和第三腔体,所述挂钩组件贯穿第一腔体的一端面,与第一腔体转动连接;所述第一腔体的另一端面与第二腔体的一端面固定连接,所述第一腔体和第二腔体隔离;所述第二腔体的另一端面与第三腔体的一端面固定连接;所述第二腔体包括氩气腔体、排气腔体和固定在氩气腔体和排气腔体之间的隔板;所述氩气腔体的侧面固定连接有进气阀,所述排气腔体与第三腔体连通;所述隔板上固定连接有热敏开关控制阀,所述热敏开关控制阀固定连接有回旋式排气道;所述第三腔体内固定连接有涡轮式导气盘,第三腔体侧面开设有两个以上的排气孔。

结合第一方面,在一种实现方式中,所述挂钩组件包括挂钩、连接杆和限位块,所述连接杆的一端固定连接挂钩,连接杆的另一端固定连接限位块,所述限位块位于第一腔体内部,限制挂钩组件与第一腔体的位置,避免挂钩组件从第一腔体内脱落。

结合第一方面,在一种实现方式中,所述第一腔体的一端面固定连接有旋转轴承,所述旋转轴承与连接杆转动连接。

结合第一方面,在一种实现方式中,所述第三腔体侧面等间距设置有排气孔,每个排气孔的大小均相同。排气孔环向均布,使得该装置工作时气流自排气孔360°环向均匀排出,可实现对热屏内壁的均匀吹拂。

结合第一方面,在一种实现方式中,所述涡轮式导气盘由两个以上的叶片组成,每个叶片等间距分布。叶片等间距分布可实现叶片引导气流环向均匀沿叶片至排气孔,最终均匀排出。

结合第一方面,在一种实现方式中,所述叶片两侧表面与涡轮式导气盘横截面垂直,所述叶片的上表面与涡轮式导气盘横截面存在夹角。设置一定的夹角主要是使得回旋式排气道排出的气流垂直对叶片进行吹拂此时叶片受力最大,可保证气流吹拂叶片时叶片受力后可自动旋转。

结合第一方面,在一种实现方式中,所述回旋式排气道为弹簧形状的环形管道,回旋式排气道远离热敏开关控制阀的一端延伸至第三腔体内,并与涡轮式导气盘保持距离。气流自回旋式排气道排出时以环向方式排出,在距离涡轮式导气盘一定距离的空间内部形成环向气流,该气流环向均匀吹拂叶片,保证叶片同时受力推动该装置旋转,同时可保证该装置旋转时重心稳定。

结合第一方面,在一种实现方式中,所述回旋式排气道设置2~5圈环形管道。由于所述装置一般使用不锈钢材质,单晶炉热屏内温度很高(高达600-1000度),氩气为冷却性气体,设置2~5圈环形管道可以使所述装置得到充分冷却,防止所述装置由于放置于温度过高的单晶炉热屏内导致腔体变形。

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