[实用新型]一种提高蚀刻过程产品均匀性的工作台

说明书

本实用新型公开了一种提高蚀刻过程产品均匀性的工作台，包括往复式驱动装置、衔接式均匀喷洒装置、传送带、支撑架和支撑柱，所述支撑柱设于传送带底部，所述支撑架设于传送带两侧，所述往复式驱动装置设于支撑架内侧，所述衔接式均匀喷洒装置设于往复式驱动装置上，所述衔接式均匀喷洒装置包括转盘放置腔、旋转转盘、旋转电机、衔接推动杆、滑动槽和喷洒头。本实用新型属于蚀刻技术领域，具体是一种以固定形态的设置即能产生逐个依次喷洒的旋转喷洒的效果，避免了蚀刻液喷洒不匀及剂量不同而造成的蚀刻尺寸产生差异，提高了产品质量的提高蚀刻过程产品均匀性的工作台。

技术领域

本实用新型属于蚀刻技术领域，具体是指一种提高蚀刻过程产品均匀性的工作台。

背景技术

蚀刻又称为光化学蚀刻，是把材料使用化学反应或物理撞击作用而移除的技术，可分为湿蚀刻和干蚀刻两种类型,通常所指蚀刻也称光化学蚀刻，指通过曝光制版、显影后，将要蚀刻区域的保护膜去除，在蚀刻时接触化学溶液，达到溶解腐蚀的作用，形成凹凸或者镂空成型的效果,最早可用来制造铜版、锌版等印刷凹凸版，也广泛地被使用于减轻重量仪器镶板，铭牌及传统加工法难以加工之薄形工件等的加工,经过不断改良和工艺设备发展，亦可以用于航空、机械、化学工业中电子薄片零件精密蚀刻产品的加工，特别在半导体制程上，蚀刻更是不可或缺的技术；而在蚀刻过程中，由于板面所接触蚀刻液时间不同，剂量也不同，进而造成蚀刻不均匀产生尺寸偏差。

实用新型内容

针对上述情况，为克服现有技术的缺陷，本实用新型提供一种以固定形态的设置即能产生逐个依次喷洒的旋转喷洒的效果，相互衔接且不会产生间隙，避免了蚀刻液喷洒不匀及剂量不同而造成的蚀刻尺寸产生差异，提高了产品质量的提高蚀刻过程产品均匀性的工作台。

本实用新型采取的技术方案如下：本实用新型一种提高蚀刻过程产品均匀性的工作台，包括往复式驱动装置、衔接式均匀喷洒装置、传送带、支撑架和支撑柱，所述支撑柱设于传送带底部，所述支撑架设于传送带两侧，所述往复式驱动装置设于支撑架内侧，所述衔接式均匀喷洒装置设于往复式驱动装置上，所述衔接式均匀喷洒装置包括转盘放置腔、旋转转盘、旋转电机、衔接推动杆、滑动槽和喷洒头，所述转盘放置腔设于往复式驱动装置上，所述旋转转盘可旋转设于转盘放置腔内，所述旋转电机设于转盘放置腔内且输出端设于旋转转盘上，所述旋转转盘上偏心设有连接转头，所述衔接推动杆铰接于连接转头上，所述滑动槽沿旋转转盘四周设于转盘放置腔内，所述衔接推动杆上铰接有喷洒控制滑块，所述喷洒控制滑块可滑动设于滑动槽内，所述喷洒头设于各滑动槽底端且位于转盘放置腔底壁，当旋转电机带动旋转转盘旋转时，连接转头绕旋转转盘中心做圆周旋转，进而逐次推动各衔接推动杆推动喷洒控制滑块向滑动槽内滑动。

进一步地，所述滑动槽内设有喷洒控制钮，所述喷洒控制钮和喷洒头连接。

进一步地，所述往复式驱动装置包括往复式驱动框、不完全齿轮和往复驱动电机，所述支撑架上设有滑道，所述往复式驱动框可滑动设于滑道内，所述往复式驱动框内两侧分别设有上条形齿和下条形齿，所述不完全齿轮可旋转设于支撑架上底壁且位于往复式驱动框框内且和上条形齿及下条形齿啮合，所述往复驱动电机可旋转设于支撑架内且输出端设于不完全齿轮上，当往复驱动电机带动不完全齿轮旋转时，不完全齿轮的轮齿和上条形齿啮合而与下条形齿不接触，此时不完全齿轮可带动往复式驱动框于滑道内向一侧滑动，当不完全齿轮继续旋转轮齿和下条形齿啮合而与上条形齿不接触，此时不完全齿轮可带动往复式驱动框于滑道内向另一侧滑动，进而不完全齿轮持续旋转可使往复式驱动框于滑道内做往复运动。

进一步地，所述传送带上设有步进电机，使传送带产生步进传递的效果。

进一步地，所述喷洒头外接蚀刻液管，所述喷洒头相互接通。