[实用新型]一种提高蚀刻过程产品均匀性的工作台有效
申请号: | 202021005388.1 | 申请日: | 2020-06-04 |
公开(公告)号: | CN211788942U | 公开(公告)日: | 2020-10-27 |
发明(设计)人: | 谭巨华;赵建平 | 申请(专利权)人: | 东莞市钜升金属科技有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
代理公司: | 北京盛凡智荣知识产权代理有限公司 11616 | 代理人: | 屠佳婕 |
地址: | 523000 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 提高 蚀刻 过程 产品 均匀 工作台 | ||
1.一种提高蚀刻过程产品均匀性的工作台,其特征在于:包括往复式驱动装置、衔接式均匀喷洒装置、传送带、支撑架和支撑柱,所述支撑柱设于传送带底部,所述支撑架设于传送带两侧,所述往复式驱动装置设于支撑架内侧,所述衔接式均匀喷洒装置设于往复式驱动装置上,所述衔接式均匀喷洒装置包括转盘放置腔、旋转转盘、旋转电机、衔接推动杆、滑动槽和喷洒头,所述转盘放置腔设于往复式驱动装置上,所述旋转转盘可旋转设于转盘放置腔内,所述旋转电机设于转盘放置腔内且输出端设于旋转转盘上,所述旋转转盘上偏心设有连接转头,所述衔接推动杆铰接于连接转头上,所述滑动槽沿旋转转盘四周设于转盘放置腔内,所述衔接推动杆上铰接有喷洒控制滑块,所述喷洒控制滑块可滑动设于滑动槽内,所述喷洒头设于各滑动槽底端且位于转盘放置腔底壁。
2.根据权利要求1所述的一种提高蚀刻过程产品均匀性的工作台,其特征在于:所述往复式驱动装置包括往复式驱动框、不完全齿轮和往复驱动电机,所述支撑架上设有滑道,所述往复式驱动框可滑动设于滑道内,所述往复式驱动框内两侧分别设有上条形齿和下条形齿,所述不完全齿轮可旋转设于支撑架上底壁且位于往复式驱动框框内且和上条形齿及下条形齿啮合,所述往复驱动电机可旋转设于支撑架内且输出端设于不完全齿轮上。
3.根据权利要求1所述的一种提高蚀刻过程产品均匀性的工作台,其特征在于:所述滑动槽内设有喷洒控制钮,所述喷洒控制钮和喷洒头连接。
4.根据权利要求1所述的一种提高蚀刻过程产品均匀性的工作台,其特征在于:所述传送带上设有步进电机。
5.根据权利要求1所述的一种提高蚀刻过程产品均匀性的工作台,其特征在于:所述喷洒头外接蚀刻液管,所述喷洒头相互接通。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造