[实用新型]一种提高真空镀膜气氛均匀性的气路装置

说明书

本实用新型公开的一种提高真空镀膜气氛均匀性的气路装置，包括一个进气管、至少一个次级分管和一个出气管，所述次级分管将进气管中气体1‑10级对称等分后与出气管连接，所述出气管的两端封闭，出气管沿其长度方向均匀的布置有等径的出气孔。本实用新型与常规气路装置比较，保证了较长长度的气体流量的一致性，提供的气氛更均匀，可控性更高，气氛调整速度快。

技术领域

本实用新型涉及物理气相沉积、化学气相沉积等真空镀膜技术技术领域，尤其涉及一种提高真空镀膜气氛均匀性的气路装置。

背景技术

真空镀膜技术包括物理气相沉积(PVD)和化学气相沉积(CVD)，已经在很多领域得到广泛应用，如太阳能光伏、光热、LED、磁存储材料制备等，近年尤甚，气氛均匀性是影响大面积薄膜材料均匀性的关键因素之一，保证大范围的气氛均匀性，才能保证大面积薄膜材料性能，以及规模化生产效率。

针对气氛均匀性，人们在气路布置方面也进行了大量的研究，现有主流气路布置方法有单管法、套管混气法以及混气罐法等，这些方法各有优点，但同时也存在很多问题，如气氛不易调整、控制滞后等，所以亟需研制一种新的气路布置方法，来保证气氛的均匀性以及易操控性。

实用新型内容

本实用新型的目的在于避免现有技术的不足之处，提供一种提高真空镀膜气氛均匀性的气路装置，从而有效解决现有技术中存在的不足之处。

为实现上述目的，本实用新型采取的技术方案为：一种提高真空镀膜气氛均匀性的气路装置，包括一个进气管、至少一个次级分管和一个出气管，所述次级分管将进气管中气体1-10级对称等分后与出气管连接，所述出气管的两端封闭，出气管沿其长度方向均匀的布置有等径的出气孔。

进一步，所述出气孔朝向同一方向。

进一步，所述出气孔的出气方向与进气管的进气方向相反。

进一步，所述出气孔的出气方向与进气管的进气方向呈锐角布置。

进一步，所述出气孔的孔径为0.1-5mm，出气孔的间距≥出气孔的孔径。

进一步，与出气管直接相连的次级分管的每个单管为其两侧的各 1-5个出气孔进行供气。

本实用新型的上述技术方案具有以下有益效果：本实用新型与常规气路装置比较，保证了较长长度的气体流量的一致性，提供的气氛更均匀，可控性更高，气氛调整速度快，并且可以将工作气体(如Ar 气)与反应气体(如O2、N2、NH3或CO2等)分开供气，即进真空腔体前不用混气，进一步提高混合气氛的均匀性与可控性。

附图说明

图1为本实用新型实施例结构示意图；

图2为本实用新型实施例出气管的俯视图；

图3为图2中A处的局部放大图；

图4为本实用新型实施例应用的真空腔体中辉光区的结构示意图；

图5为本实用新型实施例气路装置的布置图(俯视图)；

图6为图5的侧视图；

图7为本实用新型实施例气路装置的另一种布置结构图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本实用新型的实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本实用新型，但不能用来限制本实用新型的范围。