[实用新型]一种提高真空镀膜气氛均匀性的气路装置

权利要求书

1.一种提高真空镀膜气氛均匀性的气路装置，其特征在于：包括一个进气管、至少一个次级分管和一个出气管，所述次级分管将进气管中气体1-10级对称等分后与出气管连接，所述出气管的两端封闭，出气管沿其长度方向均匀的布置有等径的出气孔。

2.根据权利要求1所述的一种提高真空镀膜气氛均匀性的气路装置，其特征在于：所述出气孔朝向同一方向。

3.根据权利要求2所述的一种提高真空镀膜气氛均匀性的气路装置，其特征在于：所述出气孔的出气方向与进气管的进气方向相反。

4.根据权利要求2所述的一种提高真空镀膜气氛均匀性的气路装置，其特征在于：所述出气孔的出气方向与进气管的进气方向呈锐角布置。

5.根据权利要求2所述的一种提高真空镀膜气氛均匀性的气路装置，其特征在于：所述出气孔的孔径为0.1-5mm，出气孔的间距≥出气孔的孔径。

6.根据权利要求1所述的一种提高真空镀膜气氛均匀性的气路装置，其特征在于：与出气管直接相连的次级分管的每个单管为其两侧的各1-5个出气孔进行供气。