[发明专利]一种大尺寸超薄基板上光学滤光片的制备方法

权利要求书

1.一种大尺寸超薄基板上光学滤光片的制备方法，其特征在于：在滤光片基板的两侧表面同时并行镀制与工艺相对应的涂层，位于两侧的两个涂层的应力满足于可以相互抵消的要求。

2.根据权利要求1所述的一种大尺寸超薄基板上光学滤光片的制备方法，其特征在于：所述涂层均采用由若干膜层所构成的膜堆结构，位于所述滤光片基板两侧的所述膜堆结构的厚度相同或相似。

3.根据权利要求2所述的一种大尺寸超薄基板上光学滤光片的制备方法，其特征在于：位于所述滤光片基板两侧的所述膜堆结构是以一层为单次的镀膜数量单位同时并行进行镀制的，即同时并行镀制位于滤光片两侧的所述膜堆结构各自的第一层膜层，完成后再同时并行镀制所述膜堆结构各自的第二层膜层，直至完成所述膜堆结构。

4.根据权利要求2所述的一种大尺寸超薄基板上光学滤光片的制备方法，其特征在于：当位于所述滤光片基板两侧的所述膜堆结构的相对应膜层的镀制时间之间具有时间差时，镀制时间相对较短的膜层在完成后其对应溅射靶材停止工作，而镀制时间相对较长的膜层继续镀制直至完成。