[发明专利]用于高功率紫外线检验工具的光衰减装置

说明书

本发明涉及一种光衰减装置，其包含：外壳；第一滤波器；第一电动机，其经配置以移动所述第一滤波器；及气动致动器，其经配置以移动所述第一滤波器以与所述外壳接触或不与所述外壳接触。所述滤波器包含在宽度上变化的多个狭缝开口，使得通过所述多个狭缝开口的光量随着所述第一滤波器移动而变化。所述光衰减装置还可包含第二滤波器及经配置以移动所述第二滤波器的第二电动机。还揭示一种光衰减方法，其包含：调整滤波器的位置，使得由辐射光束照射所述滤波器的一部分；及在维持所述滤波器的所述部分的所述照射时，移动所述滤波器以与导热对象接触。

相关申请案的交叉引用

本申请案根据35 U.S.C.§119规定主张2018年9月11日申请的标题为“(用于高功率紫外线检验工具的光衰减装置)LIGHT ATTENUATION DEVICE FOR HIGH POWER UVINSPECTION TOOL”的第62/729,827号美国临时专利申请案的优先权，所述申请案的标的物以引用的方式并入本文中。

技术领域

所描述实施例大体上涉及光衰减，且更特定来说，涉及用于高功率紫外线检验工具集的光衰减解决方案。

背景技术

晶片缺陷检验系统在检验过程期间使用紫外线(UV)光来照明晶片。所检验的晶片的紫外线照明是有益的，这是因为紫外线光提供比常规使用的白光更短的波长。较短波长结合更密集照明提供较小检验像素大小及较高检测敏感度。因此需要对高功率紫外线光的可靠及精确控制以引导高质量晶片检验。

当前存在用于控制高功率紫外线光的两种主要技术，即，反射或吸收滤波及单径向梯度狭缝滤波。

在第一方法中，紫外线光的光衰减由反射或吸收光学滤波器元件实现。径向反射或吸收梯度涂层常用于此类光学滤波器。光衰减通过逐渐阻挡(反射或吸收)入射光而实现。光学滤波器衰减的这个方法具有均匀输出的优点，但通常具有相当低损坏临限值。凭借增加功率及损坏紫外线波长光源，此类光学滤波器类型的相对低功率损坏临限值变为主要限制。换句话说，这种类型的光学滤波器被高功率紫外线光迅速损坏且因此并非用于高功率紫外线设计的可靠解决方案。

在第二方法中，光衰减由单梯度狭缝滤波器实现。从此单梯度狭缝滤波器输出的功率由狭缝的开口的大小控管。然而，光轮廓跨净孔径是不均匀的。单梯度狭缝滤波器也无法提供具有高分辨率的高光衰减。这使单梯度狭缝滤波器不适于高功率紫外线设计。

发明内容

在第一新颖方面中，一种光衰减装置包含：外壳；第一滤波器；第一电动机，其经配置以移动所述第一滤波器；及气动致动器，其经配置以移动所述第一滤波器以与所述外壳接触或不与所述外壳接触。

在一个实例中，所述滤波器包含在宽度上变化的多个狭缝开口，使得通过所述多个狭缝开口的光量随着所述第一滤波器移动而变化。

在另一实例中，所述滤波器包含在直径上变化的多个圆形开口，使得通过所述多个圆形开口的光量随着所述滤波器移动而变化。

在又另一实例中，所述滤波器包含多个狭缝开口及圆形开口，使得通过所述多个狭缝开口及所述多个圆形开口的光量随着所述滤波器移动而变化。

在第二新颖方面中，一种光衰减装置包含：外壳；第一滤波器；第一电动机，其经配置以移动所述第一滤波器；第二滤波器；第二电动机，其经配置以移动所述第二滤波器；及气动致动器，其经配置以移动所述第一滤波器以与所述外壳接触或不与所述外壳接触。

在第一实例中，所述第一滤波器及所述第二滤波器为同轴的。

在第二实例中，所述第一滤波器及所述第二滤波器并非同轴。

在第三实例中，所述第一滤波器的图案正交于所述第二滤波器的图案。

在第四实例中，所述第一滤波器及所述第二滤波器同步地旋转。