[发明专利]一种大尺寸KTA晶体的制备方法有效
| 申请号: | 201910431941.3 | 申请日: | 2019-05-23 |
| 公开(公告)号: | CN110055586B | 公开(公告)日: | 2021-08-06 |
| 发明(设计)人: | 李杰;闵宇涛;董胜明;逄洪雷 | 申请(专利权)人: | 山东华特知新材料有限公司 |
| 主分类号: | C30B29/22 | 分类号: | C30B29/22;C30B7/08 |
| 代理公司: | 济南誉琨知识产权代理事务所(普通合伙) 37278 | 代理人: | 庞庆芳 |
| 地址: | 250000 山东省济南市高新区*** | 国省代码: | 山东;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 尺寸 kta 晶体 制备 方法 | ||
1.一种大尺寸KTA晶体的制备方法,其特征在于,包括以下有效步骤:
a、调配生长溶液:将高纯度砷酸二氢钾与碳酸钾按质量比5:1.1的比列混合均匀后,在800℃加入处理好的铂金坩埚中,待反应完全后升温至1000℃加入同比例1.2的二氧化钛,1100℃烧料36h,然后恒温搅拌48h,得到均匀稳定的高浓度生长溶液;
b、籽晶的选取:选取优质晶体切割Z方向籽晶,籽晶尺寸为5(y)*6(x)*6(z)mm的柱形,其中,用于进入溶液的部分加工成类晶锥形;
c、将制备好的籽晶放入到生长溶液中并送到晶体生长炉中,控制起始生长温度为880℃~950℃,生长周期内降温180℃,周期长100天,晶体转动速率30-40rpm,待生长完成后,即可得到大尺寸KTA晶体,所述c步骤中,晶体生长炉为上、中、下三段控温,其中,上段控温高于中段温度1~2℃,中段温度高于下段温度1~2℃,下段温度起始生长温度为880℃~950℃,生长周期内降温180℃,所述c步骤中,下段温度起始生长温度为920℃,生长周期内温度为740℃。
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