[发明专利]高功率宽频带照明源

说明书

本发明揭示一种用于产生宽频带辐射的系统。所述系统包含目标材料源，其经配置以将液态或固态目标材料中的一或多者输送到腔室的等离子体形成区域。所述系统进一步包含泵源，其经配置以产生泵辐射来激发所述腔室的所述等离子体形成区域中的所述目标材料产生宽频带辐射。所述系统经进一步配置以通过无窗孔隙将所述腔室的所述等离子体形成区域中所产生的所述宽频带辐射的至少一部分传输出所述腔室。

相关申请案的交叉参考

本申请案主张名叫奥莱格·柯迪金(Oleg Khodykin)及伊利亚·贝兹尔(IlyaBezel)的发明者在2017年7月25日申请的名称为“高功率高亮度真空紫外线和深紫外线宽频带连续波和调制源及其产生方法(HIGH POWER HIGH BRIGHTNESS VUV AND DUVBROADBAND CW AND MODULATED SOURCE AND METHOD OF PRODUCING THEREOF)”的美国临时申请案第62/536,914号的优先权，所述案的全部内容以引用的方式并入本文中。

技术领域

本发明大体上涉及基于等离子体的辐射源，且更特定来说，本发明涉及包含近大气压处所产生的等离子体的激光维持等离子体(LSP)宽频带辐射源。

背景技术

随着对具有越来越小装置特征的集成电路的需求不断增加，用于检验这些不断缩小装置的改进照明源的需求也不断增长。一个此照明源包含激光维持等离子体(LSP)辐射源。激光维持等离子体光源能够产生高功率宽频带光。激光维持等离子体光源通过将激光辐射聚焦到气体容积中以将例如氩气或氙气的气体激发成能够发光的等离子体状态来操作。此效应通常指称“泵抽”等离子体。在当前应用中，需要相对较高密度的等离子体且通过对目标气体提供高压(30atm到200atm)来实现相对较高密度的等离子体。

LSP辐射源中的透射元件归因于容置等离子体的腔室内的目标气体而经历高压及高温。通常由例如氟化钙、氟化镁或氟化锂的材料制成的透射窗也透射由等离子体产生的低于190nm的辐射。高压、高温及低于190nm辐射的组合使用于LSP辐射源中的透射光学器件的寿命变得非常短。

因此，期望提供一种弥补上述方法的一或多个不足的系统及方法。

发明内容

根据本发明的一或多个实施例，揭示一种设备。在一个实施例中，所述设备包含腔室。在另一实施例中，所述腔室经配置以容纳一定量的缓冲气体。在另一实施例中，所述设备包含定位在所述腔室的第一侧上的目标材料源。在另一实施例中，所述设备包含碎屑收集器。在另一实施例中，所述设备包含定位于所述腔室的与所述目标材料源相对的第二侧上的碎屑收集器。在另一实施例中，所述目标材料源经配置以将目标材料流输送通过所述腔室的等离子体形成区域。在另一实施例中，所述碎屑收集器经配置以收集目标材料。在另一实施例中，所述设备包含泵源。在另一实施例中，所述设备包含经配置以将泵辐射输送到所述腔室的所述等离子体形成区域的泵源。在另一实施例中，来自所述泵源的所述泵辐射足以经由通过激发所述腔室的所述等离子体形成区域内的所述目标材料形成等离子体来产生宽频带辐射。在另一实施例中，所述设备包含一或多个聚焦光学元件。在另一实施例中，所述一或多个聚焦光学元件经配置以将所述泵辐射聚焦到所述等离子体形成区域中。在另一实施例中，所述设备包含一或多个反射收集光学元件。在另一实施例中，所述一或多个反射收集光学元件经配置以从所述等离子体收集所述宽频带辐射的一部分且通过所述腔室的壁中的孔隙将所述宽频带辐射的所述部分输送到所述腔室外的一或多个光学元件。