[发明专利]一种金刚石抛光膜及其制备方法和应用

说明书

本发明涉及高精密研磨抛光技术领域，尤其是涉及一种金刚石抛光膜及其制备方法和应用。所述金刚石抛光膜包括基材和抛光涂层，抛光涂层主要由按重量份数计的如下组分制得：偶联处理的金刚石微粉4‑6份、胶粘剂3‑9份、溶剂1‑5份、增刚剂0.04‑1份。所述制备方法包括按比例混合偶联处理的金刚石微粉、胶粘剂、溶剂、增刚剂，加入固化剂，涂布于基材表面，固化得到抛光膜。本发明的金刚石抛光膜在光通信器件如光纤连接器的加工过程中，能够有效满足光纤连接器的加工要求，提高加工良率，并延长抛光膜的使用寿命。

技术领域

本发明涉及高精密研磨抛光技术领域，尤其是涉及一种金刚石抛光膜及其制备方法和应用。

背景技术

随着科技的发展，许多高科技元器件的精密加工都离不开研磨抛光，其中涂覆型抛光膜以其使用方便和加工效率高等特点受到人们越来越多的重视，应用领域趋于增加，主要用于金属、陶瓷、玻璃等硬质材料的抛光加工。

一般光通信器件、光学镜片、瓷盘、半导体单晶硅等精密器件的表面光洁度要求很高，如果表面有凹凸、划伤或者附着异物，设计精度和性能将得不到保证，所以，最终的表面光洁度是左右精密器件性能的重要加工过程。

例如：建立通讯系统时，一般使用光纤连接器使光纤之间、光纤与设备之间以及设备与设备之间连接起来。最常用的光纤连接器是陶瓷插芯连接器，即光纤从圆柱形陶瓷插芯中间孔中穿出，用热固型胶粘剂固定后，再使用各种研磨抛光材料把插芯和光纤的端部一起加工，达到一定的光洁度，保证通信信号的传输质量。光纤连接器的端部一般研磨抛光成光洁度很高的凸球面或者斜平面。

要达到这样的高表面光洁度，可以使用含有磨料的研磨液，或是将磨料固定在薄膜上的抛光膜，分为粗磨、中磨、精磨、抛光等数个步骤。但是，由于研磨液在放置过程中容易产生沉淀或者磨料颗粒的聚集，不仅需要再分散的手段，而且容易影响研磨性能。另外，研磨液常常对研磨机有腐蚀作用等不良影响，废液处理也逐渐成为人们关注的问题，所以使用抛光膜渐渐的成为了主流。

常用的抛光膜主要通过结合剂将磨料与薄膜带基结合起来，通过涂覆方式控制一定的涂层厚度和微观表现，以达到能够研磨抛光光纤连接器的效果。磨料的选择主要是金刚石、碳化硅、氧化铝等。然而现有技术制成的抛光膜多数使用环氧、聚氨酯、聚丙烯酸等树脂的混合，配合固化剂后形成的涂层结合强度太高，无法满足光纤连接器的加工要求，造成了产品不良率增高并且抛光膜使用寿命降低。

有鉴于此，特提出本发明。

发明内容

本发明的第一目的在于提供一种金刚石抛光膜，以解决现有技术中存在的抛光膜无法满足光纤连接器的加工要求，造成产品不良率增高并且抛光膜使用寿命降低的技术问题。

本发明的第二目的在于提供一种金刚石抛光膜的制备方法，其操作方法简单，条件温和，制备得到的抛光膜能够有效满足光纤连接器的加工要求，提高加工良率，延长使用寿命。

本发明的第三目的在于提供一种金刚石抛光膜在光通信器件的加工过程中的应用。

为了实现本发明的上述目的，特采用以下技术方案：

一种金刚石抛光膜，包括基材和抛光涂层，抛光涂层主要由按重量份数计的如下组分制得：

偶联处理的金刚石微粉4-6份、胶粘剂3-9份、溶剂1-5份、增刚剂0.04-1份。

在光纤连接器的研磨抛光过程中，需要抛光膜达到这样一种状态：磨料和结合剂形成的涂层结合能力不能太强，能够在加工过程中均匀的逐层脱落，使新的研磨颗粒裸露出来；涂层和基材的结合力要尽可能高，这样不至于造成涂层成块状脱离。由于光纤连接器的加工技术主要在四角加压和中心加压两种方式下实现，转速和压力要求相对于固结磨具的应用小很多，其对于抛光膜的强度要求并没有行业内所认知的那样高。