[发明专利]半导体IC元器件尺寸测量方法、装置及终端设备有效

专利信息
申请号: 201811170663.2 申请日: 2018-10-09
公开(公告)号: CN109405736B 公开(公告)日: 2021-09-14
发明(设计)人: 张伟峰;黎前军 申请(专利权)人: 东莞市北井光控科技有限公司
主分类号: G01B11/00 分类号: G01B11/00;G01B11/02;G01B11/06
代理公司: 东莞市浩宇专利代理事务所(普通合伙) 44460 代理人: 陈凯玉
地址: 523000 广东省东莞市长安镇*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 半导体 ic 元器件 尺寸 测量方法 装置 终端设备
【说明书】:

发明提供一种半导体IC元器件尺寸测量方法、装置及终端设备,其中,该半导体IC元器件尺寸测量方法包括:获取标定块的实际尺寸,以及通过视觉测量模块测量标定块的像素尺寸;根据所述标定块的实际尺寸、标定块的像素尺寸,确定像素尺寸与实际尺寸的转换关系;获取元器件的像素尺寸,结合所述转换关系,计算得到所述元器件的实际尺寸。由此,通过标定块的实际尺寸、标定块的像素尺寸,以确定像素尺寸与实际尺寸的转换关系,再通过元器件的像素尺寸与转换关系的结合,便可简单准确计算得到元器件的实际尺寸。

技术领域

本申请属于机器视觉识别领域,尤其涉及一种半导体IC元器件尺寸测量方法、装置及终端设备。

背景技术

在元器件的生产加工过程中,为了保证元器件的精密度,通常需要对元器件,比如各种半导体芯片进行检测。目前较为常用的方式一般是通过视觉检测系统,比如3D5S视觉检测系统对半导体产品或材料的各个方面进行检量或测量。

但是,通过视觉检测系统,比如3D5S光学模组对元器件进行检测时,3D5S光线模组实际获取的尺寸并非元器件的实际尺寸,所以要先对3D5S光学模组进行标定。然而传统标定算法在这里并不适用,一是因为3D5S光学模组的视野通常只有几个毫米,无法使用标定板进行标定。二是因为3D5S光学模组使用了设定角度的镜片(比如42度),在成像时会使得站高的投影拉长,从而无法准确的测量元器件的尺寸。

发明内容

有鉴于此,本申请实施例提供了一种半导体IC元器件尺寸测量方法、装置及终端设备,以解决现有技术中测量元器件尺寸不准确的问题。

本申请实施例的第一方面提供了一种半导体IC元器件尺寸测量方法,包括:

获取标定块的实际尺寸,以及通过视觉测量模块测量标定块的像素尺寸;

根据所述标定块的实际尺寸、标定块的像素尺寸,确定像素尺寸与实际尺寸的转换关系;

获取元器件的像素尺寸,结合所述转换关系,计算得到所述元器件的实际尺寸。

结合第一方面,在第一方面的第一种可能实现方式中,所述获取标定块的实际尺寸的步骤中,包括:

使所述标定块包括测量参照平台及凸出于所述测量参照平台的测量凸部;

获取所述标定块的A、B、C1、C2、D,其中:A为所述测量凸部的实际长度、B为所述测量凸部的实际宽度、C1为所述测量凸部的第一侧端相对于所述测量参照平台的第一侧端的实际距离、C2为所述测量凸部的第二侧端相对于所述测量参照平台的第二侧端的实际距离、D为所述测量凸部的第三侧端相对于所述测量参照平台的第三侧端的实际距离;

所述通过视觉测量模块测量标定块的像素尺寸的步骤包括:

获取所述标定块的图像中的H、L1、L2、L3、L4、S1、S2,并计算所述标定块的图像中的夹角f1、f2、f3、f4,其中:H为所述标定块的俯视图的所述测量凸部的像素长度、L1为所述标定块的左视图的所述测量凸部的像素长度、L2为所述标定块的右视图的所述测量凸部的像素长度、L3为所述标定块的前视图的所述测量凸部的像素宽度、L4为所述标定块的后视图的所述测量凸部的像素宽度、S1为所述标定块的左视图的所述测量凸部相对于所述测量参照平台的像素距离、S2为所述标定块的右视图的所述测量凸部相对于所述测量参照平台的像素距离、f1为所述标定块的左视图的所述测量凸部相对于竖直方向线的像素夹角、f2为所述标定块的右视图的所述测量凸部相对于竖直方向线的像素夹角、f3为所述标定块的前视图的所述测量凸部相对于竖直方向线的像素夹角、f4为所述标定块的后视图的所述测量凸部相对于竖直方向线的像素夹角。

结合第一方面,在第一方面的第二种可能实现方式中,所述确定像素尺寸与实际尺寸的转换关系的步骤中,包括:

步骤S301、计算求像素比例值:

k=A/H;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东莞市北井光控科技有限公司,未经东莞市北井光控科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811170663.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top