[发明专利]提高碳/碳复合材料与锂铝硅玻璃陶瓷连接性能的方法在审
申请号: | 201710163709.7 | 申请日: | 2017-03-20 |
公开(公告)号: | CN106866166A | 公开(公告)日: | 2017-06-20 |
发明(设计)人: | 付前刚;赵凤玲;李贺军;续润洲;谭必毅 | 申请(专利权)人: | 西北工业大学 |
主分类号: | C04B37/04 | 分类号: | C04B37/04;C03C10/00;C03C8/24 |
代理公司: | 西北工业大学专利中心61204 | 代理人: | 王鲜凯 |
地址: | 710072 *** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 提高 复合材料 锂铝硅 玻璃 陶瓷 连接 性能 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种提高碳/碳复合材料与锂铝硅玻璃陶瓷连接性能的方法,通过构造纳米复合界面来提高碳/碳(C/C)复合材料与锂铝硅(LAS)玻璃陶瓷连接性能的方法。
背景技术
锂铝硅(LAS)玻璃陶瓷不仅具有热膨胀系数低、抗热震性能好、化学稳定性好等特点,还具有独特的光学性能和电磁吸波性能,可用于制作数字投影仪的高性能反射器、雷达天线罩等,但是本身固有的脆性极大地限制了LAS的实际应用。而C/C复合材料是一种力学性能优异的航空热结构材料,如果将二者进行可靠连接,则可发挥二者分别作为热结构材料和高温吸波材料的优势,实现结构材料与功能材料的一体化设计。
文献1“Y Chu,H Li,H Peng,L Qi,H Luo,Z Xu.Improvement of SiC-Si/MAS Interface in the Joints via In Situ Synthesizing SiC Nanowires.Journal of the American Ceramic Society 201396[12]:3926-3932”中以硅基陶瓷为改性层,镁铝硅(MAS)玻璃为连接层,对C/C复合材料进行无压连接。由于硅基陶瓷与连接层呈弱结合状态,所得接头的连接强度仅10.1MPa。因此作者提出引入SiC纳米线增强弱界面的方法来提高接头的连接性能,但是由于所得接头的中间层不够致密,接头的连接强度依然较低,仅15.1MPa。
发明专利1“李贺军,褚衍辉,彭晗,李露,付前刚,李克智.一种提高碳/碳复合材料与其自身连接性能的方法”和文献2“Q Fu,H Peng,X Nan,H Li,Y Chu.Effect of SiC nanowires on the thermal shock resistance of joint between carbon/carbon composites and Li2O-Al2O3-SiO2glass ceramics.Journal of the European Ceramic Society 201434:2535-2541”,采用化学气相沉积法在连接层中引入SiC纳米线,以期对玻璃中间层进行强韧化,进而提高接头的连接强度。但是化学气相沉积工艺不稳定,且纳米线生成量不易控制。若纳米线含量过高,在热压烧结过程中将阻碍熔融玻璃渗入填充,影响中间层致密性;纳米线含量不足又会影响其增韧增强效果的发挥。因此该方法提升接头强度的效果有限,文献2中接头剪切强度仅24.9MPa,相比未引入纳米线的接头提高14%。
如何控制SiC纳米线多孔层的孔隙结构和生成产量,成为解决改性层与中间层弱结合问题的关键。
发明内容
要解决的技术问题
为了避免现有技术的不足之处,本发明提出一种提高碳/碳复合材料与锂铝硅玻璃陶瓷连接性能的方法
技术方案
一种提高碳/碳复合材料与锂铝硅玻璃陶瓷连接性能的方法,其特征在于步骤如下:
步骤1:利用包埋熔渗法在预处理后的C/C复合材料表面制备SiC过渡层;
步骤2:利用前驱体高温裂解法在SiC涂层表面原位生长SiC纳米线;
1)真空浸渍:将步骤1处理的材料放入前驱体浸渍液中,抽真空至-0.08MPa,真空浸渍20~60min后取出,将其置于鼓风干燥箱中进行干燥,干燥温度为80~100℃,时间为12~24h;所述前驱体浸渍液为:质量分数为20~50%的聚碳硅烷超声溶解于50~80%的二甲苯中,再加入1~2%的二茂铁,超声处理24h后制成前驱体浸渍液;
2)高温裂解:在氩气保护的高温炉中进行裂解,以5~10℃/min的升温速度升至1350~1450℃,保温1~3h,然后切断加热电源随炉冷却至室温,得到表面带有SiC纳米线的SiC-C/C复合材料;
步骤3:将MAS玻璃粉料超声分散于无水乙醇中,均匀地涂覆在步骤2处理后的表面,自然风干后放入热压模具中,并平铺LAS玻璃粉料;
步骤4:将热压模具置于真空热压烧结炉中,以5~10℃/min的升温速度升至1000℃,保温3~5min,再以5℃/min的速度升至1250~1350℃,保温20~30min;在保温阶段施以20~25MPa的压力;保温过程结束后,切断加热电源并卸载压力,自然冷却至室温,得到SiC纳米线增强的C/C-LAS接头。
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