[发明专利]一种可适用于多尺寸样片的样片托盘在审
| 申请号: | 201610527381.8 | 申请日: | 2016-07-06 |
| 公开(公告)号: | CN107591354A | 公开(公告)日: | 2018-01-16 |
| 发明(设计)人: | 顾庆钊 | 申请(专利权)人: | 苏州能讯高能半导体有限公司 |
| 主分类号: | H01L21/683 | 分类号: | H01L21/683;H01L21/687 |
| 代理公司: | 北京品源专利代理有限公司11332 | 代理人: | 张海英,林波 |
| 地址: | 215300 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 适用于 尺寸 样片 托盘 | ||
技术领域
本发明涉及半导体以及机械加工设备技术领域,尤其涉及一种可适用于多尺寸样片的样片托盘。
背景技术
在机械加工以及半导体制备行业中,部分工艺如等离子体沉积、等离子体刻蚀、溅射、材料蒸发、机械打孔、研磨等都需要将待作业的样片放置于样片托盘上,利用样片托盘来进行后续作业。
现有技术中,如图1、2所示,这种样片托盘包括托盘本体1,在托盘本体1的表面开设一种规格尺寸的样片放置槽,如第一样片放置槽2或第二样片放置槽3。作业时样品放置于样片放置槽内,利用样片放置槽对样片起一定的固定作用。然而,一种规格尺寸的样片放置槽一般只适用于一种对应规格的样片的放置,而在需要作业不同尺寸的样片时就需要频繁更换具有不同规格尺寸的样片放置槽的托盘(载盘),由于作业样片的尺寸差异大,种类多,设备需要同时配备多个不同开槽尺寸的托盘(载盘)才能够满足作业需要。而且在托盘更换前后,对于半导体行业(如等离子体刻蚀),还需要花费一定时间去进行一系列的工艺验证环节,才可以使用托盘,导致作业过程复杂,托盘存放占用空间大。
发明内容
本发明的目的在于提出一种可适用于多尺寸样片的样片托盘,能够用于作业多种不同尺寸的样片,通用性强,因而作业过程大大简化。
为达此目的,本发明采用以下技术方案:
一种可适用于多尺寸样片的样片托盘,包括托盘本体,所述托盘本体的表面开设有多种尺寸的多个样片放置槽,一个所述样片放置槽用于承载一枚相应尺寸的样片,相邻的两个所述样片放置槽的相对位置为相离、外切或相交设置。
优选的,多种尺寸的多个所述样片放置槽的底部平整,且深度一致。
优选的,同一种尺寸的所述样片放置槽的中心位于以所述托盘本体的中心为圆心的圆周上。
优选的,不同尺寸的所述样片放置槽的中心位于以所述托盘本体的中心为圆心的圆周上。
优选的,同一尺寸的所述样片放置槽的中心等分以所述托盘本体的中心为圆心的圆周。
本发明的有益效果为:
本发明的可适用于多尺寸样片的样片托盘,通过在一个样片托盘的托盘本体上设置多种不同尺寸的多个样片放置槽,多个样片放置槽的相对位置可以为相离、外切或相交设置,因此,一个样片放置槽中可以放置一片相应尺寸的样片,通过样片放置槽实现最基础的侧部限位,此外,由于对应于一种设备的样片托盘的规格尺寸是固定的,在该固定尺寸的样片托盘上通过相离、外切或相交可以设置多种不同尺寸样片放置槽,可以用于作业多种不同尺寸的样片,极大地扩大其应用范围,通用性强,因而作业过程大大简化。
附图说明
图1是现有技术中的样片托盘的结构示意图一。
图2是现有技术中的样片托盘的结构示意图二。
图3是本发明的样片托盘的一种实施例的结构示意图。
图4是图3中的样片托盘的另一种实施例的结构示意图。
图5是图3中的样片托盘在A-A处的剖面结构示意图。
图6是本发明的样片托盘的又一种实施例的结构示意图。
图7是图6中的样片托盘的另一种实施例的结构示意图。
图8是本发明的样片托盘的再一种实施例的结构示意图。
图9是图8中的样片托盘的另一种实施例的结构示意图。
图中:1-托盘本体;2-第一样片放置槽;3-第二样片放置槽。
具体实施方式
下面结合附图并通过具体实施方式来进一步说明本发明的技术方案。
实施例一
如图3、图4所示,在本实施例中,一种可适用于多尺寸样片的样片托盘,包括托盘本体1,所述托盘本体1的表面开设有多种尺寸的多个样片放置槽,一个所述样片放置槽用于承载一枚相应尺寸的样片,相邻的两个所述样片放置槽的相对位置为相离。
优选的,如图5所示,多种尺寸的多个所述样片放置槽的底部平整,且深度一致。
在实际加工时,多种尺寸的所述样片放置槽中,同一种尺寸的所述样片放置槽的放置形式可以根据实际托盘本体的尺寸以及自身的尺寸进行具体调整,可以是规则排布,也可以是不规则排布,而在本实施例中,如图3所示,同一种尺寸的所述样片放置槽的中心位于以所述托盘本体1的中心为圆心的圆周上,且同一尺寸的所述样片放置槽的中心等分以所述托盘本体1的中心为圆心的圆周。
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