[发明专利]一种提高视频图形阵列面积利用率的装置在审
申请号: | 201510876348.1 | 申请日: | 2015-12-03 |
公开(公告)号: | CN105656444A | 公开(公告)日: | 2016-06-08 |
发明(设计)人: | 卢微鸽 | 申请(专利权)人: | 上海斐讯数据通信技术有限公司 |
主分类号: | H03G3/30 | 分类号: | H03G3/30 |
代理公司: | 上海硕力知识产权代理事务所 31251 | 代理人: | 郭桂峰 |
地址: | 201616 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 提高 视频 图形 阵列 面积 利用率 装置 | ||
技术领域
本发明涉及电路技术领域,尤其涉及一种提高基于吉尔伯特单元电路的视频图形阵列(VGA,VideoGraphicsArray)面积利用率的装置。
背景技术
吉尔伯特(Gilbert)单元电路以控制电压来控制可变增益级的增益大小。
吉尔伯特单元电路如图1所示,输入信号分别从MOS管M5和M6的栅极输入,M5和M6的源极连接到恒流源ISS上,M5的漏极接到M1和M2的源极上,M6的漏极接到M3和M4的源极上,M1、M2、M3和M4的漏极分别连接到两个电阻RD上,两个电阻RD接到电源VDD上。
在该吉尔伯特单元电路中,包括两个差动对,以相反的增益对输入信号进行放大,其中通过使电流变化方向相反,便可使可变增益放大器的增益单调变化。
但是,现有技术中虽然达到了增益控制的目的,却引入了大量的电阻,而电阻在布局设计中占空间非常大的,虽然可以折叠电阻,但是还是会导致VGA的面积利用率差的问题。
由于VGA有着广泛的应用,例如在RF(射频)接收中,因此有必要对VGA进行优化设计。
发明内容
为了解决上述技术问题,一种提高视频图形阵列面积利用率的装置,能够大幅提高基于吉尔伯特单元电路的视频图形阵列面积利用率,同时也大幅提升信号传输的抗干扰能力。
本发明提供了一种提高视频图形阵列面积利用率的装置,所述装置的电路结构由N型金属-氧化物-半导体单元组成,且至少包括四级N型金属-氧化物-半导体单元,其中,第一级N型金属-氧化物-半导体单元的控制端和第一输入电压连接,输入端和电源电压连接,用于作为负载电阻;第二级N型金属-氧化物-半导体单元的控制端连接差分电压,输入端和所述第一级N型金属-氧化物-半导体单元的输出端连接,用于输出差分信号;第三级N型金属-氧化物-半导体单元的控制端和控制电压连接,输入端和所述第二级N型金属-氧化物-半导体单元的输出端连接,用于输出控制信号;第四级N型金属-氧化物-半导体单元的控制端和第二输入电压连接,输入端和所述第三级N型金属-氧化物-半导体单元的输出端连接,输出端接地,用于通过第二输入电压对差分信号进行电流控制。
进一步地,所述第一级N型金属-氧化物-半导体单元包括第一N型金属-氧化物-半导体子单元和第二N型金属-氧化物-半导体子单元;所述第一N型金属-氧化物-半导体子单元和第二N型金属-氧化物-半导体子单元的漏极均和电源电压连接,栅极均和第一输入电压连接。
进一步地,所述第一N型金属-氧化物-半导体子单元和第二N型金属-氧化物-半导体子单元导通后的导通电阻作为负载电阻。
进一步地,所述第二级N型金属-氧化物-半导体单元包括第三N型金属-氧化物-半导体子单元和第四N型金属-氧化物-半导体子单元;所述第三N型金属-氧化物-半导体子单元的漏极和第一N型金属-氧化物-半导体子单元的源极连接;第四N型金属-氧化物-半导体子单元的漏极和第二N型金属-氧化物-半导体子单元的源极连接,所述第三N型金属-氧化物-半导体子单元和所述第四N型金属-氧化物-半导体子单元的栅极连接所述差分。
进一步地,所述第三N型金属-氧化物-半导体子单元接收第一N型金属-氧化物-半导体子单元的传输信号,第四N型金属-氧化物-半导体子单元接收第二N型金属-氧化物-半导体子单元的的传输信号;第三N型金属-氧化物-半导体子单元和第四N型金属-氧化物-半导体子单元对输入的传输信号进行差分传输形成差分信号。
进一步地,所述第三级N型金属-氧化物-半导体单元包括第五N型金属-氧化物-半导体子单元和第六N型金属-氧化物-半导体子单元;所述第五N型金属-氧化物-半导体子单元的漏极和第三N型金属-氧化物-半导体子单元的源极连接,栅极和控制电压连接;第六N型金属-氧化物-半导体子单元的漏极和第四N型金属-氧化物-半导体子单元连接,栅极和控制电压连接。
进一步地,所述第五N型金属-氧化物-半导体子单元和第六N型金属-氧化物-半导体子单元接收第三级N型金属-氧化物-半导体单元和第四级N型金属-氧化物-半导体单元传输的差分信号,并对差分信号进行电压控制。
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