[发明专利]一种提高视频图形阵列面积利用率的装置在审

专利信息
申请号: 201510876348.1 申请日: 2015-12-03
公开(公告)号: CN105656444A 公开(公告)日: 2016-06-08
发明(设计)人: 卢微鸽 申请(专利权)人: 上海斐讯数据通信技术有限公司
主分类号: H03G3/30 分类号: H03G3/30
代理公司: 上海硕力知识产权代理事务所 31251 代理人: 郭桂峰
地址: 201616 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 提高 视频 图形 阵列 面积 利用率 装置
【权利要求书】:

1.一种提高视频图形阵列面积利用率的装置,其特征在于,所述 装置的电路至少包括四级N型金属-氧化物-半导体单元,其中,

第一级N型金属-氧化物-半导体单元的控制端和第一输入电压连 接,输入端和电源电压连接,用于作为负载电阻;

第二级N型金属-氧化物-半导体单元的控制端连接一差分电压,输 入端和所述第一级N型金属-氧化物-半导体单元的输出端连接,用于输 出差分信号;

第三级N型金属-氧化物-半导体单元的控制端和控制电压连接,输 入端和所述第二级N型金属-氧化物-半导体单元的输出端连接,用于输 出控制信号;

第四级N型金属-氧化物-半导体单元的控制端和第二输入电压连 接,输入端和所述第三级N型金属-氧化物-半导体单元的输出端连接, 输出端接地。

2.如权利要求1所述的提高视频图形阵列面积利用率的装置,其 特征在于,所述第一级N型金属-氧化物-半导体单元包括第一N型金属 -氧化物-半导体子单元和第二N型金属-氧化物-半导体子单元;

所述第一N型金属-氧化物-半导体子单元和第二N型金属-氧化物- 半导体子单元的漏极均和电源电压连接,栅极均和第一输入电压连接。

3.如权利要求2所述的提高视频图形阵列面积利用率的装置,其 特征在于,所述第一N型金属-氧化物-半导体子单元和第二N型金属- 氧化物-半导体子单元导通后的导通电阻作为负载电阻。

4.如权利要求3所述的提高视频图形阵列面积利用率的装置,其 特征在于,所述第二级N型金属-氧化物-半导体单元包括第三N型金属 -氧化物-半导体子单元和第四N型金属-氧化物-半导体子单元;

所述第三N型金属-氧化物-半导体子单元的漏极和第一N型金属- 氧化物-半导体子单元的源极连接,第四N型金属-氧化物-半导体子单元 的漏极和第二N型金属-氧化物-半导体子单元的源极连接,所述第三N 型金属-氧化物-半导体子单元和所述第四N型金属-氧化物-半导体子单 元的栅极连接所述差分。

5.如权利要求4所述的提高视频图形阵列面积利用率的装置,其 特征在于,所述第三N型金属-氧化物-半导体子单元接收第一N型金属 -氧化物-半导体子单元的传输信号,第四N型金属-氧化物-半导体子单 元接收第二N型金属-氧化物-半导体子单元的的传输信号;

第三N型金属-氧化物-半导体子单元和第四N型金属-氧化物-半导 体子单元对输入的传输信号进行差分传输形成差分信号。

6.如权利要求5所述的提高视频图形阵列面积利用率的装置,其 特征在于,所述第三级N型金属-氧化物-半导体单元包括第五N型金属 -氧化物-半导体子单元和第六N型金属-氧化物-半导体子单元;

所述第五N型金属-氧化物-半导体子单元的漏极和第三N型金属- 氧化物-半导体子单元的源极连接,栅极和控制电压连接;第六N型金 属-氧化物-半导体子单元的漏极和第四N型金属-氧化物-半导体子单元 连接,栅极和控制电压连接。

7.如权利要求6所述的提高视频图形阵列面积利用率的装置,其 特征在于,所述第五N型金属-氧化物-半导体子单元和第六N型金属- 氧化物-半导体子单元接收第三级N型金属-氧化物-半导体单元和第四 级N型金属-氧化物-半导体单元传输的差分信号,并对差分信号进行电 压控制。

8.如权利要求7所述的提高视频图形阵列面积利用率的装置,其 特征在于,所述第四级N型金属-氧化物-半导体单元,包括第七N型金 属-氧化物-半导体子单元;

所述第七N型金属-氧化物-半导体子单元的漏极分别和第五N型金 属-氧化物-半导体子单元和第六N型金属-氧化物-半导体子单元的源极 连接,栅极和第二输入电压连接,源极接地。

9.如权利要求8所述的提高视频图形阵列面积利用率的装置,其 特征在于,通过改变第二输入电压调节所述第七N型金属-氧化物-半导 体单元提供的工作电流。

10.如权利要求1~9中任一项所述的提高视频图形阵列面积利用 率的装置,其特征在于,所述装置的电路中还包括:隔离所述四级N型 金属-氧化物-半导体单元的隔离环。

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