[实用新型]直流励磁式类金刚石膜涂层设备有效
| 申请号: | 201420072460.0 | 申请日: | 2014-02-20 |
| 公开(公告)号: | CN203700514U | 公开(公告)日: | 2014-07-09 |
| 发明(设计)人: | 陈远达 | 申请(专利权)人: | 湖南中航超强金刚石膜高科技有限公司 |
| 主分类号: | C23C16/27 | 分类号: | C23C16/27;C23C16/44 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 415200 *** | 国省代码: | 湖南;43 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 直流 励磁式类 金刚石 涂层 设备 | ||
1.直流励磁式类金刚石膜涂层设备,其特征在于:包括涂层室、底座、电池箱、进气口、管道、恒温控制室,所述涂层室下方设有一底座,所述底座上安装有一电池箱,所述电池箱顶部设有外接线柱;所述涂层室的一侧设有进气口,所述进气口通过管道连接到恒温控制室,所述的恒温控制室上部设有热电偶;所述涂层室底部装有一绝缘底板,所述绝缘底板上分布有内接线柱,所述内接线柱上端与直流励磁线圈相连,所述内接线柱下端通过联接线与外接线柱相连;所述涂层室上装有门。
2.根据权利要求1所述的直流励磁式类金刚石膜涂层设备,其特征在于:所述的电池箱上设有控制开关、电压表、指示灯、遥控接收器。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





