[实用新型]一种大尺寸晶体检验台

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种晶体检验台，更具体地说，涉及一种用于检测大尺寸晶体的晶体检验台。

背景技术

随着人工晶体生长工艺的不断成熟，生长出的晶体尺寸也越来越大，例如单晶硅、铌酸锂、蓝宝石晶体的重量更是突破了80Kg级及以上。因人工晶体在生长过程中会有不同程度的生长缺陷，如：散点、包络、生长纹、开裂等，因此，在晶体出炉之后需要人工对晶体进行相应的品质检测，找出晶体缺陷、判断成品率。

目前晶体的检测采用人工检测，在人工检测晶体各项参数的同时需要快捷、方便的转动晶体以达到全方位检测效果。但大尺寸晶体因其形状、质量、体积等因素造成人工转动困难，以至于检测过程相当麻烦，且因晶体表面有很多的棱角，在手工旋转晶体的时候如不注意很容易对双手造成不同程度的损伤。

实用新型内容

本实用新型的目的在于克服现有技术的不足，提供一种结构简单，能够方便快捷的对大尺寸晶体进行旋转检测的大尺寸晶体检验台。

本实用新型的技术方案如下：

一种大尺寸晶体检验台，包括主台体、检验槽、滚动装置，所述的检验槽设置在主台体顶部，且开口朝上，滚动装置设置在检验槽内。

作为优选，滚动装置包括套管、转轴，所述的转轴套装于套管中，转轴固定安装在检验槽上。

作为优选，滚动装置至少一个，所述的滚动装置沿检验槽表面分布。

作为优选，所述的检验槽为U型弧面。

作为优选，U型弧面横向设置有平行的沟槽，滚动装置安装在沟槽内。

作为优选，沟槽的深度小于套管的直径。

作为优选，所述的检验槽为两个带U型开口的支撑架构成的U型导轨。

作为优选，U型开口上设置有缺口，两个支撑架的U型开口上的缺口位置对称，滚动装置安装在缺口内。

作为优选，缺口的深度小于套管的直径。

本实用新型的有益效果如下：

本实用新型的检验台利用套管和转轴之间的低摩擦快速的实现对大尺寸晶体的旋转，给大尺寸晶体的检验工作带来了巨大的便利，提高了工作效率。

检验槽设置为U型弧面结构或U型导轨结构，晶体在自身重力与滚动装置的作用下，始终保持位于检验槽的底部，方便操作。

在检验槽内设置沟槽用于安装滚动装置，对滚动装置起到一定的保护作用，由于滚动大尺寸晶体的力矩较大，容易造成转轴的损坏。将滚动装置安装在沟槽内，有利于延长滚动装置的使用寿命。

附图说明

图1是本实用新型的结构侧视示意图；

图2是U型弧面的俯视示意图；

图3是滚动装置的结构示意图；

图4是滚动装置安装于沟槽内的结构剖视示意图；

图5是支撑架结构示意图；

图中：1是主台体，2是U型弧面，3是滚动装置，4是套管，5是转轴，6是沟槽，7是支撑架。

具体实施方式

以下结合附图及实施例对本实用新型进行进一步的详细说明。

一种大尺寸晶体检验台，包括主台体、检验槽、滚动装置，所述的检验槽设置在主台体顶部，且开口朝上，滚动装置设置在检验槽上。滚动装置至少一个，所述的滚动装置沿检验槽表面分布。滚动装置包括套管、转轴，所述的转轴套装于套管中，转轴固定安装在检验槽内。

所述的检验槽为U型弧面。为了保护滚动装置，延长滚动装置的使用寿命，在U型弧面上横向设置有平行的沟槽，滚动装置安装在沟槽内，且沟槽的深度小于套管的直径。检验槽也可以为两个带U型开口的支撑架构成的U型导轨。在U型开口上设置有缺口，两个支撑架的U型开口上的缺口位置对称，滚动装置安装在缺口内，且缺口的深度小于套管的直径。

实施例1

如图1所示，所述的大尺寸晶体检验台，主要包括主台体1、U型弧面2、套管4、转轴5，U型弧面2内设有半圆形沟槽6。本实施例中，套管4为聚四氟乙烯管，转轴5为铁棒。

如图3所示，所述的聚四氟乙烯管以及铁棒组合成滚动装置3，具体是将铁棒插入聚四氟乙烯管，利用铁棒和聚四氟乙烯管之间的低摩擦来实现对大尺寸晶体的旋转。

如图2所示，本实施例中，有多个滚动装置3，滚动装置3沿检验槽表面呈均匀分布、平行设置。

所述的沟槽6是根据滚动装置3设置的，具体如图4所示，可以将滚动装置3中间的铁棒固定住，同时沟槽6的深度要小于聚四氟乙烯管的直径，使得乙烯管有约1/6弧度凸现在U型弧面2中，检验时晶体放入U型弧面2中和突起的聚四氟乙烯管接触，实现滚动。

实施例2