[实用新型]一种用于提高LED共晶焊接炉温度均匀性的装置

权利要求书

1.一种用于提高LED共晶焊接炉温度均匀性的装置，其特征在于：由下基板(8)和上盖(12)组成，其中在下基板(8)上设有至少一个凹槽，在每个凹槽内的下基板(8)上均开有热气流通孔(11)，并且在每个凹槽的边缘处均设有环状的基板装配槽(10)，从而与上盖(12)边缘处的环状的上盖装配边(13)配合以安装上盖(12)，而在上盖(12)上也开有热气流通孔(11)。

2.如权利要求1所述的一种用于提高LED共晶焊接炉温度均匀性的装置，其特征在于：其中在每一个凹槽的一侧均设有操作口(9)。

3.如权利要求2所述的一种用于提高LED共晶焊接炉温度均匀性的装置，其特征在于：其中操作口(9)为半圆槽。

4.如权利要求1所述的一种用于提高LED共晶焊接炉温度均匀性的装置，其特征在于：其中在下基板(8)上设有两个矩形凹槽，从而放置两块陶瓷基板。

5.如权利要求1所述的一种用于提高LED共晶焊接炉温度均匀性的装置，其特征在于：其中下基板(8)和上盖(12)均采用陶瓷材质。

6.如权利要求1至5中任意一项所述的一种用于提高LED共晶焊接炉温度均匀性的装置，其特征在于：其中在下基板(8)和上盖(12)上分别均匀开有热气流通孔(11)，下基板(8)上的所有热气流通孔(11)的面积之和大于等于下基板(8)总面积的60％，上盖(12)上的所有热气流通孔(11)的面积之和大于等于上盖(12)总面积的60％。