[发明专利]一种可提高画面解析度的立体显示设备及其制造方法

权利要求书

1.一种可提高画面解析度的立体显示设备，其特征在于，所述立体显示设备包括：

多条栅极线，每一栅极线沿一第一方向延伸；

多条数据线，每一数据线沿一第二方向延伸，所述数据线与所述栅极线位于不同的平面，且所述第二方向与所述第一方向彼此正交；以及

一中间介质层，设置于所述栅极线与所述数据线之间，所述中间介质层包括一第一介质部和一第二介质部，所述第一介质部与所述第二介质部分别位于所述栅极线的相对两侧，

其中，所述第一介质部和所述第二介质部之间还具有一容置空间，所述容置空间填充有一低k材料，以降低所述栅极线与所述数据线间的寄生电容。

2.根据权利要求1所述的立体显示设备，其特征在于，所述低k材料为空气或有机材料或空气与有机材料二者的混合物。

3.根据权利要求2所述的立体显示设备，其特征在于，所述有机材料的介电常数为3.3。

4.根据权利要求1所述的立体显示设备，其特征在于，所述中间介质层包括层叠的氧化硅层和氮化硅层，所述氮化硅层位于所述氧化硅层的上方，所述氮化硅层与所述氧化硅层的厚度均为3000埃。

5.一种可提高画面解析度的立体显示设备的制造方法，其特征在于，该制造方法包括以下步骤：

形成多条栅极线；

形成一中间介质层于所述栅极线的上方；

形成多条数据线于所述中间介质层的上方，所述数据线与所述栅极线位于不同的平面，且所述数据线的延伸方向与所述栅极线的延伸方向彼此正交；

涂布一光刻胶于所述中间介质层的上表面；

蚀刻所述中间介质层，形成一容置空间，以便露出所述数据线下方的所述栅极线；以及

填充一低k材料于所述容置空间内，以降低所述栅极线与所述数据线间的寄生电容。

6.根据权利要求5所述的制造方法，其特征在于，在上述蚀刻步骤与填充步骤之间，该制造方法还包括：

移除所述中间介质层的上表面的所述光刻胶。

7.根据权利要求5所述的制造方法，其特征在于，该制造方法还包括：

在填充有所述低k材料的容置空间之上形成一导电层，所述导电层由氧化铟锡材料制成。

8.根据权利要求5所述的制造方法，其特征在于，上述涂布步骤还包括：

涂布所述光刻胶于所述数据线的上表面，以保护所述数据线。

9.根据权利要求5所述的制造方法，其特征在于，形成所述中间介质层的步骤还包括：

形成氧化硅层于所述栅极线的上方；以及

形成氮化硅层于所述氧化硅层的上方，其中，所述氧化硅层与所述氮化硅层的厚度均为3000埃。

10.根据权利要求5所述的制造方法，其特征在于，所述低k材料为空气或有机材料或空气与有机材料二者的混合物。