[发明专利]仿生硅化钼梯度叠层复合纳米涂层制备工艺无效
申请号: | 201210132923.3 | 申请日: | 2012-04-28 |
公开(公告)号: | CN102644048A | 公开(公告)日: | 2012-08-22 |
发明(设计)人: | 徐江;毛相震;李正阳 | 申请(专利权)人: | 南京航空航天大学 |
主分类号: | C23C14/06 | 分类号: | C23C14/06;C23C14/34 |
代理公司: | 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 | 代理人: | 李纪昌 |
地址: | 210016 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 仿生 硅化钼 梯度 复合 纳米 涂层 制备 工艺 | ||
技术领域
本发明提供了一种制备仿生Mo5Si3/MoSi2梯度叠层复合纳米涂层方法。适用于在钛合金表面制备先进的高韧性、耐磨蚀复合梯度涂层的制备领域,涉及到利用表面改性手段制备先进纳米梯度复合涂层的制备。
背景技术
金属硅化物MoSi2作为难熔金属硅化物最典型的代表, 兼具金属与陶瓷双重特性,既有金属般的导电性和高温塑性,又有陶瓷般的高熔点、高耐蚀和抗氧化性,是一种极具潜力的高温耐磨、耐蚀涂层候选材料。目前,阻碍其实用化进程、亟待解决的关键问题是:①低温脆性。MoSi2的晶体结构对称性低, 共价键具有强烈的方向性, 晶体中强弱键交错,在应力作用下,容易因弱键断开而产生微裂纹。②低温区氧化粉化瘟疫现象。在较低温度下MoSi2表现出加速氧化的趋势,尤其在500℃左右MoSi2材料常常因剧烈氧化而成粉末状。已有大量的研究工作表明,通过添加陶瓷(如SiC、Si3N4、和ZrO2)或金属硅化物(如Mo5Si3)形成MoSi2基复合材料或通过添加合金元素(如Mg、V、Nb、和Al)进行合金化均可改善其低温脆性或低温抗氧化性能。近年来,已有文献报道了纳米MoSi2基复合材料能明显提高该材料的韧性。但同时采用合金化和复合化两种方法,提高MoSi2基纳米复合材料的韧性、耐磨、耐蚀以及抗氧化性能尚未见报道。
发明内容
解决的技术问题:本发明的目的在于通过双阴极等离子溅射沉积技术为手段,利用Mo与Ti之间负的化学作用,通过调整靶材中Mo、Si、Al元素的含量,使得在Ti基体上沉积过程中Mo元素发生明显的上坡扩散,Mo元素从表到里梯度分布,导致Mo5Si3含量由表及里梯度增加,最终在Ti基体表面形成不同Al含量的仿生Mo5Si3/MoSi2梯度叠层复合纳米涂层。该梯度复合纳米晶硅化物涂层具有高韧性、高硬度以及优异的耐腐蚀性,能明显提高钛合金的耐磨性、耐腐蚀性能和抗氧化性能。
技术方案:仿生硅化钼梯度叠层复合纳米涂层制备工艺,利用双阴极等离子溅射沉积法,在钛合金工件表面形成致密的纳米晶硅化物层,其中
a.双阴极等离子溅射工艺参数:靶材电压800~1000 V,工件电压300~450 V,靶材与工件间距10~30 mm,Ar气压30~45Pa,沉积温度600-800℃
b.溅射的靶材种类:成分配比为Mo0.35-55(Si0.95,Al0.05)0.65-45粉末冶金烧结板为靶材;
c.工件材料的种类:钛合金。
优选条件为:靶材电压900 V,工件电压350 V,靶材与工件间距15 mm,Ar气压35Pa,沉积温度700℃。
有益效果:
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