[发明专利]仿生硅化钼梯度叠层复合纳米涂层制备工艺无效
| 申请号： | 201210132923.3 | 申请日： | 2012-04-28 |
| 公开（公告）号： | CN102644048A | 公开（公告）日： | 2012-08-22 |
| 发明（设计）人： | 徐江;毛相震;李正阳 | 申请（专利权）人： | 南京航空航天大学 |
| 主分类号： | C23C14/06 | 分类号： | C23C14/06;C23C14/34 |
| 代理公司： | 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 | 代理人： | 李纪昌 |
| 地址： | 210016 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 仿生 硅化钼 梯度 复合 纳米 涂层 制备 工艺 | ||
【权利要求书】：
1.仿生硅化钼梯度叠层复合纳米涂层制备工艺，其特征在于利用双阴极等离子溅射沉积法，在钛合金工件表面形成致密的纳米晶硅化物层，其中
a.双阴极等离子溅射工艺参数：靶材电压800~1000 V，工件电压300~450 V，靶材与工件间距10~30 mm，Ar气压30~45Pa，沉积温度600-800℃；
b.溅射的靶材种类：成分配比为Mo0.35-55(Si0.95,Al0.05)0.65-45粉末冶金烧结板为靶材；
c.工件材料的种类：钛合金。
2.根据权利要求1所述的仿生硅化钼梯度叠层复合纳米涂层制备工艺，其特征在于所述靶材电压900 V。
3.根据权利要求1所述的仿生硅化钼梯度叠层复合纳米涂层制备工艺，其特征在于所述工件电压350 V。
4.根据权利要求1所述的仿生硅化钼梯度叠层复合纳米涂层制备工艺，其特征在于所述靶材与工件间距15 mm。
5.根据权利要求1所述的仿生硅化钼梯度叠层复合纳米涂层制备工艺，其特征在于所述Ar气压35Pa。
6.根据权利要求1所述的仿生硅化钼梯度叠层复合纳米涂层制备工艺，其特征在于所述沉积温度700℃。
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