[发明专利]D类射频功率放大电路无效

专利信息
申请号: 201110353586.6 申请日: 2011-11-09
公开(公告)号: CN103107784A 公开(公告)日: 2013-05-15
发明(设计)人: 秦威;李勇滔;李英杰;赵章琰;夏洋 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: H03F3/20 分类号: H03F3/20
代理公司: 北京市德权律师事务所 11302 代理人: 刘丽君
地址: 100027 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 射频 功率 放大 电路
【说明书】:

技术领域

发明涉及电子技术领域,特别涉及一种D类射频功率放大电路。

背景技术

D类功率放大器相比E类功率放大器而言,D类功率放大器对输入电压要求不是很高,不会因为输入电压过高而引起工作在D类状态的功率放大器击穿。因此,相比于E类功率放大器,D类功率放大器的选型比较容易一般满足E类工作条件的功率放大器都可以工作在D类状态,而且由于工作在D类状态的功率放大器可以承受更高的电压使其相较于E类状态时可以输出更高的功率。由于D类功率放大器同样工作于开关状态与工作在E类状态的功率放大器一样,功率转换效率理论上可以达到100%。由于D类功率放大器的两个功率放大器工作在推挽状态与实际功率放大器的封装所带来的功率放大器的输入输出电容、饱和导通电阻以及实际输出网络不可避免的存在一定的失谐于基频,因此极大的限制了两个功率放大器工作在D类状态时的工作频率,输出功率以及工作稳定性。

图1给出了现有D类准互补电压开关型2MHz射频功率放大器的结构。该D类功率放大器的基本的工作原理为:当VT1闭合,VT2断开时,A点电压应为电源电压VCC减去T1管的饱和压降VCES。当VT1截止,VT2导通时,A点的电压就等于VT2管的饱和压降VCES。该电路存在以下缺陷:1、D类功率放大器输出网络失谐会引起对功率放大器有极大危害的负电流。2、D类功率放大器要实现高效率工作,对激励信号的波形和幅度的要求。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是提供一种能消除负电流对D类功率放大器危害及满足D类功率放大器实现高效率工作的D类射频功率放大电路。

为解决上述技术问题,本发明提供了一种D类射频功率放大电路,包括D类功率放大器及晶体管保护电路,所述D类功率放大器包括第一晶体管VT1、第二晶体管VT2及电压互感器,所述晶体管保护电路与所述D类功率放大器中的第一晶体管VT1、第二晶体管VT2连接。

进一地,所述晶体管保护电路包括二极管D1、二极管D2;所述二极管D1连接在所述第一晶体管VT1的集电级和第一晶体管VT1的发射级之间;所述二极管D2连接在所述第二晶体管VT2的集电级和和第二晶体管VT2的发射级之间。

进一地,所述晶D类射频功率放大电路还包括二个RC电路,其中,一所述RC电路连接在所述电压互感器和所述第一晶体管VT1的基级之间,另一所述RC电路连接在所述电压互感器和所述第二晶体管VT2的基级之间。

进一地,所述RC电路包括电阻Rb和加速电容Cb;所述电阻Rb和加速电容Cb并联。

进一步地,所述第一晶体管VT1、第二晶体管VT2由三极管实现。

本发明还提供一种D类射频功率放大电路,包括D类功率放大器及二个RC电路,所述D类功率放大器包括第一晶体管VT1、第二晶体管VT2及电压互感器,一所述RC电路连接在所述电压互感器和所述第一晶体管VT1的基级之间,另一所述RC电路连接在所述电压互感器和所述第二晶体管VT2的基级之间。

进一步地,所述RC电路包括电阻Rb和加速电容Cb;所述电阻Rb和加速电容Cb并联。

进一步地,所述D类射频功率放大电路还包括晶体管保护电路,所述晶体管保护电路与所述D类功率放大器中的第一晶体管VT1、第二晶体管VT2连接

进一步地,所述晶体管保护电路包括二极管D1、二极管D2;所述二极管D1连接在所述第一晶体管VT1的集电级和第一晶体管VT1的发射级之间;所述二极管D2连接在所述第二晶体管VT2的集电级和和第二晶体管VT2的发射级之间。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院微电子研究所,未经中国科学院微电子研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110353586.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top