[发明专利]金刚石切削刀具超精密刃磨用抛光液及其制备方法无效
申请号: | 201110352554.4 | 申请日: | 2011-11-09 |
公开(公告)号: | CN102516874A | 公开(公告)日: | 2012-06-27 |
发明(设计)人: | 金洙吉;苑泽伟;李强;康仁科 | 申请(专利权)人: | 大连理工大学 |
主分类号: | C09G1/02 | 分类号: | C09G1/02;B24B3/00 |
代理公司: | 大连理工大学专利中心 21200 | 代理人: | 梅洪玉;关慧贞 |
地址: | 116024*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 金刚石 切削 刀具 精密 刃磨用 抛光 及其 制备 方法 | ||
技术领域
本发明属于超硬材料抛光技术领域,涉及到一种金刚石切削刀具超精密刃磨用抛光液及其制备方法。
背景技术
随着超精密切削加工技术的应用与推广,超精密切削的加工精度逐渐向纳米尺度及其极限精度发展。在超精密切削加工中,为了使加工零件获得纳米、亚纳米特征的加工精度,除了需要超精密机床、高分辨率的检测仪器和超稳定的加工环境外,高精度、低损伤的金刚石刀具是必须具备的条件,尤其是圆弧刃金刚石刀具。例如,在光学反射镜和光学模具超精密加工中,不仅要求金刚石刀具切削刃圆钝圆半径小于100nm,而且要求刀尖圆弧轮廓精度小于50nm,刀具表面粗糙度Ra小于10nm,刀具亚表面损伤小于2nm。可见金刚石切削刀具的刃磨技术严重制约了其在超精密加工中的应用。
目前最常使用的金刚石刀具刃磨方法是机械刃磨方法。机械刃磨法一般采用直径为300~400mm的铸铁研磨盘,在盘面涂敷含1~50μm金刚石磨粒的研磨膏后,对其进行预研使金刚石磨粒嵌入铸铁研磨盘面的微孔,然后以常用转速3000r/min对金刚石刀具进行刃磨。或者采用粒度为0.5~10um金刚石砂轮以磨削的方式机械去除金刚石以达到刃磨金刚石刀具的目的。虽然该方法可以使金刚石表面粗糙度达到纳米级,但刃磨时间较长。并且,由于该方法对刀具刀口具有不连续的冲击,要使切削刃钝圆半径低于70~80nm比较困难。另外刃磨过程中接触压力较大,金刚石刀具存在一定的亚表面损伤。这些亚表面损伤会降低刀具表层金刚石原子的稳定性,使刀具的耐磨性下降。随着刀具表面的磨损,刀刃表面粗糙度增大,进而又加剧刀具的磨损。最终加剧降低刀具的寿命和工件的表面质量。
因此,本发明针对机械刃磨方法存在无法实现纳米级钝圆半径、表面粗糙度高、亚表面损伤大、刃磨时间长等问题,提出采用化学机械耦合抛光的方法刃磨金刚石刀具。该方法以碳化硼、碳化硅或氧化铝陶瓷盘为抛光盘,并滴加相应的抛光液,降低机械去除所带来的损伤,优先去除金刚石刀具表面具有损伤的材料,逐渐消除刀具表面的亚表面损伤。
发明内容
本发明要解决的技术问题是提供一种金刚石切削刀具超精密刃磨用抛光液及其制备方法,解决目前机械刃磨金刚石切削刀具所存在的刀具表面粗糙度高、亚表面损伤大、刃磨时间长、无法实现纳米级钝圆半径等问题。
为了实现上述目的,本发明的技术方案是:
一种金刚石切削刀具超精密刃磨用抛光液,其特征在于,它包括磨料、氧化剂、催化剂、分散剂、稳定剂、PH调节剂和去离子水,各原料所占质量百分比为:
磨料:4~13.5%;
氧化剂:4.5~16%;
稳定剂:0.65~1.8%;
分散剂:6.5~19.5%;
催化剂:0.2~2%;
去离子水:50~80%;
PH调节剂:0.65~2%;各原料质量百分比之和为100%;
所述的磨料是粒径为30nm-2μm的碳化硼磨料;
所述的氧化剂是纯度为70~95%的高铁酸钾;
所述的催化剂为具有催化氧化功能的金属氧化物粉末,如一氧化镍、三氧化二铬、氧化铈、氧化铜;
所述的分散剂为15-100nm的水溶硅溶胶;
所述的稳定剂为硅酸钠;
所述的PH调节剂为氢氧化钠、氢氧化钾。
上述抛光液的制备方法,包括如下步骤:
1)选取磨料、氧化剂、稳定剂、分散剂、催化剂、PH调节剂和去离子水原料备用,各原料所占质量百分比为:磨料:4~13.5%;氧化剂:4.5~16%;稳定剂:0.65~1.8%;分散剂:6.5~19.5%;催化剂:0.2~2%;PH调节剂:0.65~2%;去离子水:50~80%;各原料质量百分比之和为100%;
2)按上述质量百分比将PH调节剂加入到去离子水中,充分搅拌并冷却,配置成强碱溶液;
3)按上述质量百分比将稳定剂和分散剂加入到强碱溶液中,充分搅拌,制备成混合溶液;
4)按上述质量百分比将磨料加入到混合溶液中,超声波搅拌10~30min,使得磨料在去离子水中充分分散,配制成悬浮液,静置1h使悬浮液充分稳定;
5)在悬浮液中按上述质量百分比加入氧化剂和催化剂,轻微搅拌使氧化剂缓慢溶解完全,配制成抛光液。
所述抛光液的使用方法是采用碳化硼、碳化硅或氧化铝陶瓷抛光盘以50~500r/min的转速与金刚石刀具对磨,在接触面附近滴加所述抛光液,以达到化学机械耦合刃磨的目的。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于大连理工大学,未经大连理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110352554.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:管乐器音孔盖调整装置
- 下一篇:移动终端及其图像分屏处理方法