[发明专利]金刚石切削刀具超精密刃磨用抛光液及其制备方法无效
| 申请号: | 201110352554.4 | 申请日: | 2011-11-09 |
| 公开(公告)号: | CN102516874A | 公开(公告)日: | 2012-06-27 |
| 发明(设计)人: | 金洙吉;苑泽伟;李强;康仁科 | 申请(专利权)人: | 大连理工大学 |
| 主分类号: | C09G1/02 | 分类号: | C09G1/02;B24B3/00 |
| 代理公司: | 大连理工大学专利中心 21200 | 代理人: | 梅洪玉;关慧贞 |
| 地址: | 116024*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 金刚石 切削 刀具 精密 刃磨用 抛光 及其 制备 方法 | ||
1.一种金刚石切削刀具超精密刃磨用抛光液,其特征在于,它包括磨料、氧化剂、催化剂、分散剂、稳定剂、PH调节剂和去离子水,各原料所占质量百分比为:
磨料:4~13.5%;
氧化剂:4.5~16%;
稳定剂:0.65~1.8%;
分散剂:6.5~19.5%;
催化剂:0.2~2%;
去离子水:50~80%;
PH调节剂:0.65~2%;
各原料质量百分比之和为100%;
所述的磨料是粒径为30nm-2μm的碳化硼磨料;
所述的氧化剂是纯度为70~95%的高铁酸钾;
所述的催化剂为具有催化氧化功能的金属氧化物粉末,具有催化氧化功能的金属氧化物是一氧化镍、三氧化二铬、氧化铈、氧化铜;
所述的分散剂是粒径为15-100nm的水溶硅溶胶;
所述的稳定剂为硅酸钠;
所述的PH调节剂为氢氧化钠、氢氧化钾。
2.权利要求1所述抛光液的制备方法,其特征在于包括如下步骤:
1)按权利要求1所述的比例配料;
2)将PH调节剂加入到去离子水中,充分搅拌并冷却,配置成强碱溶液;
3)将稳定剂和分散剂加入到强碱溶液中,充分搅拌,制备成混合溶液;
4)将磨料加入到混合溶液中,超声波搅拌10~30min,使得磨料在去离子水中充分分散,配制成悬浮液,静置1h使悬浮液充分稳定;
5)在悬浮液中加入氧化剂和催化剂,搅拌使氧化剂缓慢溶解完全,配制成抛光液。
3.应用权利要求2所述抛光液的方法,其特征是采用碳化硼、碳化硅或氧化铝陶瓷抛光盘以50~500r/min的转速与金刚石刀具对磨,在接触面附近滴加抛光液。
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