[发明专利]提高磁隧道结中击穿电压的方法无效

专利信息
申请号: 01140855.3 申请日: 2001-09-18
公开(公告)号: CN1354519A 公开(公告)日: 2002-06-19
发明(设计)人: J·H·尼克尔 申请(专利权)人: 惠普公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L27/10;G11C11/02;H01L43/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 吴增勇,王忠忠
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 提高 隧道 击穿 电压 方法
【权利要求书】:

1.一种磁随机存取存储器件(8),它包括含有磁隧道结(30)的存储单元(12)的阵列,所述磁隧道结(30)包括具有不完全处理的基底材料的隧道层(40)。

2.权利要求1的器件,其特征在于:所述不完全处理的基底材料是欠氧化的。

3.权利要求1的器件,其特征在于:所述不完全处理的基底材料是欠氮化的。

4.权利要求1的器件,其特征在于:在所述隧道层(40)的第一表面的所述基底材料的密度大体上低于在所述隧道层(40)的第二表面上的所述基底材料的密度。

5.权利要求1的器件,其特征在于:所述不完全处理的基底材料把所述击穿电压增加到具有完全处理的基底材料的结的击穿电压的至少两倍。

6.权利要求1的器件,其特征在于:所述磁隧道结(30)是自旋相关的隧道贯穿结。

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