[发明专利]金刚石复合涂层拉丝模制备方法有效
申请号: | 01113027.X | 申请日: | 2001-05-31 |
公开(公告)号: | CN1327084A | 公开(公告)日: | 2001-12-19 |
发明(设计)人: | 沈荷生;张志明;郭松寿 | 申请(专利权)人: | 上海交通大学 |
主分类号: | C23C16/27 | 分类号: | C23C16/27;B21C3/02 |
代理公司: | 上海交通大学专利事务所 | 代理人: | 毛翠莹 |
地址: | 200030*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 金刚石 复合 涂层 拉丝 制备 方法 | ||
本发明涉及一种新的金刚石复合涂层拉丝模及其制备方法,涉及到化学气相沉积(简称CVD)纳米金刚石涂层拉丝模制备技术,属冶金类金属材料的镀覆技术领域。
金属拉丝,都要求拉丝模的模孔表面有很高的硬度和光洁度,提高拉丝模的工作寿命。当拉丝模的孔径较小时,模芯可采用天然或人造金刚石单晶,CVD金刚石厚膜和聚晶金刚石片等材料。但是,当孔径φ≥2.5mm时,采用非常稀少的大颗粒金刚石单晶作为模芯是不可能的,而制备厚度大于3毫米的高质量CVD厚膜已非常困难,虽然仍可以采用聚晶金刚石片,但成本很高,价格昂贵。因此国内绝大多数场合都采用硬质合金拉丝模,但这种模芯容易磨损,工作寿命较短,使用效果并不理想。如果以价格和使用效果两方面考虑,比较理想做法是在硬质合金拉丝模内孔表面涂覆一层均匀的,附着力满足拉丝要求的表面光滑的金刚石薄膜。中国专利“金刚石涂层拉丝模”(专利号ZL98110896.2)采用市售硬质合金拉丝模,以平行气流穿孔直拉热丝CVD法在模孔内表面涂覆一层均匀的,附着力强的金刚石薄膜,薄膜厚度10~20微米,表面硬度非常接近或达到天然金刚石水平。用这种拉丝模拉焊接材料(如H08,ER50-6等),其工作寿命比普通硬质合金拉丝模提高5~10倍。但是,由于金刚石有很大的表面能,因此,常规金刚石表面呈凹凸不平,而且硬度极高,很难对涂层进行抛光。由于表面粗糙(Ra约0.3微米),使拉丝时拉拔力过大,且工件表面光洁度下降,从而限制了该涂层拉丝模的应用。虽然添加少量四氯化碳进行CVD沉积可以改善涂层表面光洁度,但反应产物氯化氢气体对设备有严重的腐蚀作用。
本发明的目的在于针对现有技术的上述缺陷,提出一种新的金刚石复合涂层拉丝模的制备方法,既保持常规金刚石涂层的强附着力,耐磨等优点,又能增加涂层表面平整光滑,摩擦系数小,容易抛光等特点,使涂层拉丝模能适应各种线材的拉丝。
为实现这样的目的,关键技术是在拉丝模的内孔表面涂覆一层常规金刚石薄膜后,如何原位沉积一层纳米金刚石薄膜以组成复合涂层,满足涂层表面平整光滑和易于研磨抛光的要求。本发明的技术解决方案为:(1)仍然采用市售大孔径硬质合金拉丝模(孔径≥2.5毫米)为衬底,衬底经稀盐酸腐蚀和金刚石粉末研磨等预处理后,置于模孔轴心位置的热灯丝用耐高温弹簧拉直,气流方向和灯丝方向平行,使内孔表面的温度和气流保持均匀。在热丝和拉丝模内孔表面加上直流偏压,形成直流等离子体,以加速金刚石膜生长。这样得到的常规金刚石涂层厚10~20微米,涂层附着力强,表面硬度可达到天然金刚石的水平。(2)在上述已沉积一层常规金刚石涂层的基础上,原位继续沉积一层纳米金刚石薄膜,以组成复合涂层。纳米金刚石表面平整光滑,而且表面硬度也要比常规金刚石低20%~30%,这非常有利于涂层的机械抛光。本发明的纳米金刚石的制备方法与常规金刚石涂层完全相同,只要改变工艺条件,如降低反应气体压力,增加碳源(丙酮)浓度,添加惰性气体(如Ar气)等等就可达到目的了。因此,涂覆纳米金刚石可在原位进行,得到的金刚石多晶颗粒大小约为50~100纳米。采用复合涂层可充分发挥常规金刚石和纳米金刚石两方面的优点。如果只有常规金刚石涂层,虽然涂层附着力强,涂层硬度高,耐磨,但表面粗糙,摩擦系数较大,极难抛光;如果只有纳米金刚石涂层,虽然有表面光滑平整,摩擦系数小,易抛光等优点,但由于涂层晶界多,含较多非金刚石sp2结构,因而硬度,耐磨性下降,内应力较大而导致附着力下降,无法作为耐磨涂层而应用。因此,采用单一涂层都不理想,而复合涂层是最为合适的。
为了更好的理解本发明的技术解决方案,下面结合金刚石涂层拉丝模的制备装置和涂层表面形貌作进一步的详细描述。
图1为制备金刚石复合涂层拉丝模的装置示意图。
图中,在衬底支撑台7上搁置有拉丝模5,热灯丝6置于拉丝模5的轴心位置并用耐高温弹簧8拉直,热灯丝6的两端连接电极支架3到灯丝电源1,反应气体从进气口4进入,从排气口9出,在热灯丝6和拉丝模5内孔表面加上直流偏压2,将经过预处理的衬底(拉丝模)置于CVD反应室中,热灯丝采用单根穿孔直拉钽丝或钨丝,穿过拉丝模孔后用耐高温弹簧8拉直,并恰好置于拉丝模5轴心位置;反应室抽真空后从进气口4通入反应气体氢气和丙酮(或氢气和乙醇),调整反应室压力后加热灯丝,施加偏压,开始CVD沉积常规金刚石涂层。反应气体在热灯丝和直流等离子体的激励下产生足够浓度的活性氢原子和含碳活性基因,不断地流过拉丝模5内孔表面,从而保证在拉丝模5内孔表面沉积均匀的金刚石涂层。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
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C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的