[发明专利]用于将物质,特别是分子库组合合成用单体涂布于支持物的设备和方法

摘要

本发明提供一种将物质,更为特别的是用于分子库的组合合成的单体涂布到支持物的方法,物质首先被包埋进基质中,基质至少由一种溶剂组成,该溶剂在低于90℃的条件下,优选的在低于50℃的条件下以固态聚集态形式存在,物质被包埋至基质形式的转印单元中,然后该转印单元在低于90℃条件下,优选的低于50℃条件下,以固态聚集态形式被涂布于支持物,或该转印单元被溶解于一个第二种溶剂组分中,并且在该温度条件下,以液态聚集态被涂布支持物,其中,在该第二种溶剂组分全部或部分蒸发后,它们呈现出固态或凝胶状态聚集态,该转印单元在涂布到支持物后保持固态或凝胶态聚集态,位于支持物上的物质,接着通过改变物理环境被活动化,通过一个物理过程进入支持物平面附近,被活动化的物质共价偶联到分子上。多层该物质被反复的一个接一个的定址精确地涂布到支持物上,该方法可通过基本具有激光打印机或激光复印机或喷墨打印机结构的设备进行。

主权项

1.一种将物质，更为特别的是用于分子库的组合合成的单体涂布到支持物的方法，其特征在于-物质(2)首先被包埋进基质(3)中，基质(3)至少由一种溶剂(4)组成，该溶剂(4)在低于90℃的条件下，优选的在低于50℃的条件下以固态聚集态形式(7)存在，-物质(2)被包埋至至少由一种溶剂(4)组成的基质(3)中形成以单元形式被移动(6)的转印单元(5)，-然后该转印单元(5)在低于90℃条件下，优选的低于50℃条件下，以固态聚集态(7)形式被涂布(6)于支持物(1)，或该转印单元(5)被溶解于一个第二种溶剂组分(12)中，并且在该温度条件下处于液态聚集态(13)被涂布(6)于支持物(1)，其中，在该第二种溶剂组分(12)全部或部分蒸发后，它们呈现出固态或凝胶态聚集态(7)，-该转印单元(5)在涂布到支持物(1)后保持固态或凝胶态聚集态(7)，-位于支持物(1)上，溶解于所述的第一种溶剂的物质(2)，接着通过改变物理环境(8)，更为具体的在所述的第一种溶剂(4)内，被活动化，-被活动化的物质(2，9)通过一个物理过程进入支持物平面(10)附近，-被活动化的物质(2，9)共价偶联到位于支持物(1)的分子上，或者进入与这些分子的化学反应或催化这些分子，-被活动化并共价偶联到支持物的物质(11)是或产生许多不同的物质(2)，-超过1层的该物质(2)被反复的一个接一个的定址精确地涂布到支持物(1)上，在每一种情况下，随后进行物质与支持物(11)的共价偶联和洗去未偶联的物质。