[发明专利]用于将物质,特别是分子库组合合成用单体涂布于支持物的设备和方法无效

专利信息
申请号: 99816181.0 申请日: 1999-12-14
公开(公告)号: CN1357004A 公开(公告)日: 2002-07-03
发明(设计)人: A·普斯特卡;F·布雷特林;K·-H·格罗斯;S·迪贝尔;R·萨夫里希 申请(专利权)人: 德国癌症研究公共权益基金会;欧洲分子生物学实验室
主分类号: C07K1/04 分类号: C07K1/04;C07H21/00;B01J19/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 罗宏,谭明胜
地址: 德国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 用于 物质 特别是 分子 组合 合成 单体 支持 设备 方法
【权利要求书】:

1.一种将物质,更为特别的是用于分子库的组合合成的单体涂布到支持物的方法,其特征在于

-物质(2)首先被包埋进基质(3)中,基质(3)至少由一种溶剂(4)组成,该溶剂(4)在低于90℃的条件下,优选的在低于50℃的条件下以固态聚集态形式(7)存在,

-物质(2)被包埋至至少由一种溶剂(4)组成的基质(3)中形成以单元形式被移动(6)的转印单元(5),

-然后该转印单元(5)在低于90℃条件下,优选的低于50℃条件下,以固态聚集态(7)形式被涂布(6)于支持物(1),或该转印单元(5)被溶解于一个第二种溶剂组分(12)中,并且在该温度条件下处于液态聚集态(13)被涂布(6)于支持物(1),其中,在该第二种溶剂组分(12)全部或部分蒸发后,它们呈现出固态或凝胶态聚集态(7),

-该转印单元(5)在涂布到支持物(1)后保持固态或凝胶态聚集态(7),

-位于支持物(1)上,溶解于所述的第一种溶剂的物质(2),接着通过改变物理环境(8),更为具体的在所述的第一种溶剂(4)内,被活动化,

-被活动化的物质(2,9)通过一个物理过程进入支持物平面(10)附近,

-被活动化的物质(2,9)共价偶联到位于支持物(1)的分子上,或者进入与这些分子的化学反应或催化这些分子,

-被活动化并共价偶联到支持物的物质(11)是或产生许多不同的物质(2),

-超过1层的该物质(2)被反复的一个接一个的定址精确地涂布到支持物(1)上,在每一种情况下,随后进行物质与支持物(11)的共价偶联和洗去未偶联的物质。

2.根据权利要求1的方法,其特征在于该物质(2)在90℃条件下,优选的在50℃条件下以颗粒形式呈现固定化状态,其颗粒大小介于0.2μm和200μm之间,优选的介于2μm和40μm之间。

3.根据权利要求1或2的方法,其特征在于在单体与支持物(1)的偶联反应(10,11)开始之前,该支持物(1)保存在与所述的转印单元(7,13)相比低至少10℃的条件下。

4.根据权利要求1到3之一的方法,其特征在于物质的定址精确转印是在合适的经过改进的打印方法的辅助下,更为特别是在一台激光打印机、一台激光复印机或一台喷墨打印机的帮助下发生的。

5.根据权利要求1到4之一的方法,其特征在于物质的定址精确转印是在许多可有目的控制的光源的辅助下,更为特别的是在发光二极管或微激光阵列的辅助下发生的。

6.根据权利要求1到5之一的方法,其特征在于被涂布到支持物的颗粒是被喷洒到支持物上。

7.根据权利要求1到6之一的方法,其特征在于支持物上的颗粒是被冷却并深度冷冻的。

8.根据权利要求1到7之一的方法,其特征在于颗粒含有至少一种来源于下组的成分或结合于含有来源于下组的成分的颗粒:磁性组分、二苯基甲酰胺、用于组合合成的单体、二体或三体的前体、更为具体的,D或L氨基酸、核苷或衍生的核苷或其镜像异构体或它们的衍生物的前体或者聚苯乙烯或纤维素,更为具体的是被偶联到一层或多层单体上的聚苯乙烯或纤维素。

9.根据权利要求1到8之一的方法,其特征在于在第一轮偶联反应循环后,保护基按照标准方法被去除,使得优选的可与单体、二体或三体的前体偶联的游离氨基基团或羟基基团出现。

10.将物质特别是用于分子库组合合成的单体涂布于支持物的方法,其特征在于电磁波、更为特别的是激光,被反复定址准确地照射支持物的特定区域,使得支持物的特定区域被或将被带上不同分子或这些分子上的不同的聚集体,不同分子或这些分子上的不同的聚集体和入射的电磁波相互作用,位于特定区域的不同分子或这些分子上的不同聚集体或其他分子和入射的电磁波相互作用,并且通过入射的电磁波和不同分子或这些分子上的不同聚集体或其他分子的相互作用,使得定址的物理或化学过程开始进行。

11.用于将分子涂布到支持物的一个基本平面的表面上的设备,该设备包括用于可旋转地固定支持物的装置,使得可以围绕基本垂直于支持物平面的轴进行旋转,用于将不同流体涂布到支持物表面旋转轴区域的装置以及至少一台可以相对于支持物表面进行操作的激光发射器以用激光照射支持物的特定区域。

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